NPC-3500（M）等离子去胶机（刻蚀机）：NANO-MASTER 等离子去胶和等离子清洗机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光...

NPC-3000等离子去胶机（刻蚀机）：NANO-MASTER 等离子去胶和等离子清洗机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶剥...

NRE-3000 反应离子刻蚀机：PC控制的RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔...

NRE-3500（A）全自动反应离子刻蚀机：自动上下栽片，PC控制的RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜，13“顶盖式圆柱形铝腔...

NRE-3500（M）反应离子刻蚀机：PC控制的反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体...

NRE-4000（M）反应离子刻蚀：独立式RIE系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口...

NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装...

NIE-4000（R）RIBE反应离子束刻蚀：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的...

NIM-4000（M）离子铣刻蚀系统：利用离子束轰击固体表面的溅射作用，剥离加工各种几何图形，通过大面积离子源产生的离子束，可对固体材料溅射刻蚀，对固体器件进行...

NIM-4000（A）全自动离子铣刻蚀：利用离子束轰击固体表面的溅射作用，剥离加工各种几何图形，通过大面积离子源产生的离子束，可对固体材料溅射刻蚀，对固体器件进...

NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的...

NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常...

NIE-3000IBE离子束刻蚀：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的台式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣等。

NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀：是一款自动放片/取片，并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理...

NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣...

NMC-4000 MOVPE设备：针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统（PA-MOCVD）,该系统具有5个鼓泡装置（...

NIE-3500（R）RIBE反应离子束刻蚀：可以用于光栅刻蚀，SiO2二氧化硅、Si 硅以及金属等的深槽刻蚀。此外，还可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。系统...

NIE-4000IBE离子束刻蚀系统：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情...

C-4000Sputter磁控溅射镀膜机：*进的全自动溅射系统带有水冷或者加热（可加热至700度）功能；8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮...