微波等离子化学气相沉积系统: NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，...

光学镀膜设备：NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供*进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样...

光学镀膜系统：NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供*进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样...

RIE刻蚀机：独立式RIE系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,...

进口ALD设备：ALD原子层沉积可以满足膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在...

等离子去胶机：NANO-MASTER 等离子去胶和等离子灰化机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系...

兆声清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。该系统配套机械手，也可以升级...

硅片清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗...

进口晶圆清洗机：Nano-Master进口兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、...

等离子体增强MOCVD：针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统（PA-MOCVD）,该系统具有5个鼓泡装置（各带独立的...

金属有机化学气相沉积系统MOVPE设备：针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助（PA-MOCVD）,该系统具有5个鼓泡装置（各带独立的冷却槽）...

SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆...

NANO-MASTER （那诺-马斯特）可根据客户需求，提供合适的Plasma Source等离子体源，可以是空心阴极等离子源，也可以是感应耦合等离子源。等离子...

NANO-MASTER（那诺-马斯特）Plate样品台，又称为基板或加热板，是真空镀膜设备中常用到关键部件。因此样品台可以整合到RIE刻蚀、ICP刻蚀、PECV...

NMC-4000（M）PA-MOCVD设备：针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统（PA-MOCVD）,该系统具有5个...

NDT-4000热真空试验箱：NDT-4000是NANO-MASTER进口热真空系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机...

热真空环境模拟试验设备：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安...

空间环境模拟试验设备：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全...

NPC-3500（A）研发用等离子去胶机：NANO-MASTER 等离子去胶和等离子清洗机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶...

研发用等离子去胶机：Alpha等离子系统ASTRO96是一款低压微波等离子系统，用于键合、模塑、焊锡球黏合前的*进芯片封装清洗，以及倒装芯片清洗。ASTRO96...