ICP及DRIE刻蚀系统,ICP及DRIE刻蚀系统价格|报价-那诺中国有限公司

NRE-4000（ICPA）全自动ICP刻蚀系统
NRE-4000（ICPA）全自动ICP刻蚀系统：自动上下载片，带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实...

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ICP等离子刻蚀机
NRE-4000（ICPM）ICP等离子刻蚀机：是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻...

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NDR-4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀
NDR-4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀：全自动上下载片，带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统，带8“ ICP源。系统配套500L/S抽速的涡轮...

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NDR-4000（M）DRIE深反应离子刻蚀
NDR-4000（M）DRIE深反应离子刻蚀：是带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统，带8“ ICP源。系统配套500L/S抽速的涡轮分子泵，可以使得工艺...

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