C-4000(A)全自动磁控溅射系统:立式自动系统,带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到6“旋转平台,Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡...
C-4000(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到到8“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-...
C-3500(A)全自动磁控溅射系统:立式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极...
C-3500(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 ...
C-3000(A)全自动磁控溅射系统:台式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极...
C-3000(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 ...
C-1000磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Tor...
C-4000Sputter磁控溅射镀膜机:先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热(可加热至700度)功能;8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮...
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