agleT-i是AOI市场上2D检测速度快的设备之一，其中囊括了CAMTEK的机构、新的镜头、高速的传输信道。检测原理与MVP有点类似，都是通过工业相机进行图像...

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BVX-100台式单用户吸烟臂/压力通风系统

PTC/PTTC 烙铁头 [焊接、拆焊和返修系统] 其他配件

SSC 烙铁头[焊接、拆焊和返修系统]SSC-671A 凿型，（宽×长）SSC-771A 1.0 x 9.1 mm （.04“ x .36“）SSC-...

美国OKI/METCAL电烙铁MX-500/MX-5200/MX-5000手柄线MX-RM3E

METCAL电烙铁DFP-CN4/DCP-CN4/DFP-CN5/DCP-CN5/DFP-CN6详细介绍

高性能电子束曝光机是一款高性能的纳米光刻系统，拥有完整200mm尺寸的光刻能力，这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。

EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计，

PIONEER Two将专业电子束曝光设备和电子成像系统所有的先进性能，融合成一套独立的成套系统。多功能性、稳定性、用户友好性操作，使PIONEER Two系统...

探索超越电子束曝光功能的纳米工程系统超高分辨电子束曝光、成像及纳米工程系统纳米加工领域的瑞士

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是的方法之一。先进纳米科技提供;的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（E...

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（E...

电子束光刻系统特点1.采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪2.出色的电子束偏转控制技术3.采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（address size）可达0....

探针式表面轮廓仪在严格的质量保证与控制下获得300mm性能检测;可容纳多大350mm*350mm的样品，将Dektak有意的可重复性和再现性应用于大尺寸晶片及面...

Dektak XTL 严格的质量保证与控制下获得300mm性能检测;可容纳多大350mm*350mm的样品，将Dektak有意的可重复性和再现性应用于大尺寸晶片...

Dektak XTL 严格的质量保证与控制下获得300mm性能检测;可容纳多大350mm*350mm的样品，将Dektak有意的可重复性和再现性应用于大尺寸晶片...

布鲁克探针式表面轮廓仪（又称“台阶仪"）历今四十载，积累大量专有技术。从传统的二维表面粗糙度和台阶高度测量，到更高级的三维表面成像和薄膜应力测试，Dektak台...

布鲁克探针式表面轮廓仪（又称“台阶仪"）历今四十载，积累大量专有技术。从传统的二维表面粗糙度和台阶高度测量，到更高级的三维表面成像和薄膜应力测试，Dektak台...

ContourGT-K 3D光学显微镜是表面轮廓仪功能和价值的标准。该系统具有各种2D / 3D测量，高分辨率成像和用户友好的界面，该系统以紧凑的封装和紧凑的占...