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EVG 520HE 热压印系统用于对热塑性基材进行高精度压印。 EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径大为200 mm的基板，并且与标准的半导体制造技术兼容...
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到大150毫米
EVG 520HE 热压印系统用于对热塑性基材进行高精度压印。 EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径大为200 mm的基板，并且与标准的半导体制造技术兼容...
高度灵活的热压印系统，用于研发和小批量生产
自动化SmartNIL UV纳米压印光刻；具有EVG专有的SmartNIL®技术的自动全场UV纳米压印解决方案（大200毫米）大面积的共形纳米压印光刻
EVG7200 自动化SmartNIL UV纳米压印光刻；具有EVG专有的SmartNIL®技术的自动全场UV纳米压印解决方案（大200毫米）
具有EVG专有的SmartNIL®技术的自动全场UV纳米压印解决方案（大150毫米）
具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL®技术，大可达150 mm
具有UV纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL®技术，大可达100 mm
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到大150毫米
纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层；纳米压印光栅；莲花效应；光子带隙...
纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层；纳米压印光栅；莲花效应；光子带隙...
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