晶圆键合机适用于SOI，MEMS，化合物半导体和先进基板键合的低温等离子体活化系统； 技术数据：EVG810 LT LowTemp™等离子活...

EVG 520HE 热压印系统用于对热塑性基材进行高精度压印。 EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径大为200 mm的基板，并且与标准的半导体制造技术兼容...

Trymax目前拥有半自动、全自动系列设备供用户选择，目前已有上百台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统、微流体器件、SOI基片制造、先进封装、...

产品特点1.采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪2.出色的电子束偏转控制技术3.采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（address size）可达0.0012n...

适用于SOI，MEMS，化合物半导体和先进基板键合的低温等离子体活化系统； 技术数据：EVG810 LT LowTemp™等离子活化系统是具有手动操...

用于研发或小批量生产的晶圆键合系统-与大批量生产设备*兼容

具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到大150毫米

EVG的GEMINI FB XT集成熔合系统扩展了当前标准，并结合了更高的生产率，更高的对准度和覆盖精度，适用于诸如存储器堆叠，3D片上系统（SoC），背面照明...

SOI晶片是微电子行业有望生产出更快，性能更高的微电子设备的有希望的新基础材料。晶圆键合技术是SOI晶圆制造工艺的一项关键技术，可在绝缘基板上实现高质量的单晶硅...

适用于SOI，MEMS，化合物半导体和先进基板键合的低温等离子体活化系统； 技术数据：EVG810 LT LowTemp™等离子活化系统是具有手动操...

适用于SOI，MEMS，化合物半导体和先进基板键合的低温等离子体活化系统； 技术数据：EVG810 LT LowTemp™等离子活化系统是具有手动操...

EVG301半自动化单晶片清洗系统采用一个清洗站，该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速，毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶片。

EVG301半自动化单晶片清洗系统采用一个清洗站，该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速，毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶片。

融合或直接晶圆键合可通过每个晶圆表面上的介电层连接，该介电层用于工程衬底或层转移应用，例如背面照明的CMOS图像传感器。混合键合扩展了与键合界面中嵌入的金属焊盘...

EVG粘合对准系统提供了zui高的精度，灵活性和易用性，模块化升级功能，并且已经在众多高通量生产环境中进行了认证。

用于晶圆间对准的自动键合对准系统，用于研究和试生产

适用于学术界和工业研究的晶圆对晶圆对准的手动键对准系统

集成的模块化大批量生产系统，用于对准晶圆键合；GEMINI自动化生产晶圆键合系统可实现zui高水平的自动化和过程集成。

VG320 D2W 是一个高度灵活的平台，具有通用的硬件/软件界面，可与第三方选择和放置模具粘接系统实现无缝集成。

单腔或双腔晶圆键合系统，用于小批量生产