EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图...

纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层；&#16...

纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层；纳米压印光栅；莲花效应；光子带隙...

多用途的纳米光刻系统eLINE Plus被广泛用于大学和研究中心，该系统有很多多功能附件可供用户选择，满足用户对电子束光刻机多功能性的要求。除具有专业的电子束光...

PIONEERTM集成了电子束曝光及成像分析双功能，是高校和科研人员的理想选择。从理念上，PIONEERTwo是一个全新的*的设备，真正意义上实现了电子束曝光和...

通过参与好的端研究项目，通过和其他电子显微镜以及显微分析的制造商的合作，TESCAN致力于持续不断的改进产品以使其保持在微纳技术创新解决方案领域内的竞争力。本着...

FERA3 XM是一款由计算机全控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

FERA3 GM是一款由计算机*控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

shi jie*个*集成式Xe等离子源聚焦离子束扫描电子显微镜----FERA3，提供了超高离子束束流（zui高束流为2µA），其溅射速度比Ga离子源...

EVG500系列键合机主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层；纳米压印光栅；莲花效应...

纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层；纳米压印光栅；莲花效应；光子带隙...

EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图...