进口晶圆清洗机：Nano-Master进口兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、...

等离子体增强MOCVD：针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统（PA-MOCVD）,该系统具有5个鼓泡装置（各带独立的...

金属有机化学气相沉积系统MOVPE设备：针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助（PA-MOCVD）,该系统具有5个鼓泡装置（各带独立的冷却槽）...

SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆...

NANO-MASTER （那诺-马斯特）可根据客户需求，提供合适的Plasma Source等离子体源，可以是空心阴极等离子源，也可以是感应耦合等离子源。等离子...

NANO-MASTER（那诺-马斯特）Plate样品台，又称为基板或加热板，是真空镀膜设备中常用到关键部件。因此样品台可以整合到RIE刻蚀、ICP刻蚀、PECV...

NMC-4000（M）PA-MOCVD设备：针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统（PA-MOCVD）,该系统具有5个...

NDT-4000热真空系统：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制...

NOC-4000进口光学镀膜机：NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供*进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第...

NRE-4000型RIE-PE刻蚀机：提供PC控制的PE刻蚀RIE刻蚀一体机，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝...

NRE-3500型RIE-PE刻蚀机：PC控制的RIE刻蚀PE刻蚀一体机，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装...

NRE-3000型RIE-PE刻蚀机：PC控制的RIE刻蚀PE刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载...

NIE-3500（M）离子束清洗系统：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。

NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统：是一款自动放片/取片，并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、...

NIE-3000离子束清洗系统：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的台式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣等。

NPD-4000（A）全自动PLD脉冲激光沉积系统：脉冲激光束聚焦在固体靶的表面上。固体表面大量吸收电磁辐射导致靶物质快速蒸发。蒸发的物质由容易逃出与电离的核素...

NPD-4000（M）PLD脉冲激光沉积系统：脉冲激光束聚焦在固体靶的表面上。固体表面大量吸收电磁辐射导致靶物质快速蒸发。蒸发的物质由容易逃出与电离的核素组成。...

NEE-4000（M）电子束蒸发系统：NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，样品台位于主腔体，二级腔体则用于安置电子束源。两个腔体之间的门阀可以作为预真...

NTE-4000（A）全自动热蒸发系统：全自动立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。具有...

NTE-4000（M）热蒸发系统：NTE-4000是PC控制的立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复...