NDT-4000热真空试验箱:NDT-4000是NANO-MASTER进口热真空系统,用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机...
NEE-4000(A)全自动电子束蒸发系统:NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置,样品台位于主腔体,二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁...
NTE-3500(A)全自动热蒸发系统:全自动立式热蒸发系统,在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。具有...
NMC-3000等离子辅助MOCVD系统:针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓...
NLD-4000(ICPM)PEALD系统:ALD原子层沉积可以满足准确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体...
NLD-3000原子层沉积系统:ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性...
NPE-4000(ICPM)ICPECVD等离子体化学气相沉积系统: NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片...
C-4000(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到到8“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-...
LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统:Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离。它是集成式的...
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀...
NDR-4000(M)DRIE深反应离子刻蚀:是带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统,带8“ ICP源。系统配套500L抽速的涡轮分子泵,可以使得工艺压力...
NRE-4000(M)反应离子刻蚀:独立式RIE系统,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品,不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口...
微波等离子化学气相沉积系统: NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,...
光学镀膜设备:NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术,在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光,然后把样片传送到第二级腔体中对同一样...
光学镀膜系统:NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术,在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光,然后把样片传送到第二级腔体中对同一样...
RIE刻蚀机:独立式RIE系统,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品,不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,...
进口ALD设备:ALD原子层沉积可以满足膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在...
等离子去胶机:NANO-MASTER 等离子去胶和等离子灰化机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理,具有广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系...
兆声清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀。该系统配套机械手,也可以升级...
硅片清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗...
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