其他前道工艺设备,其他前道工艺设备价格|报价-深圳市矢量科学仪器有限公司

半自动CMP抛光机
CMP抛光机是一款针对薄膜（介质层）的抛光设备，操作便捷，兼容性强，通过更换抛光压头实现不同尺寸晶圆的兼容，采用手动装片方式，可配置半自动loading系统，气...
型号： TMP-200S/... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/9/4 15:08:39 对比

抛光
真空蒸馏设备
真空蒸馏设备CEH系列该设备的用途是真空蒸馏处理。可在真空下低温短时间蒸馏热感受性高的物质（热分解·重重合的物质）。具有非常优异的分离效率。
型号： CEH系列所在地：国外参考价：面议更新时间：2024/9/4 15:06:41 对比

CEH系列真空蒸馏设备爱发科 ULVAC
12英寸槽式清洗设备
12英寸槽式清洗设备Pinnacle300平台适用于集成电路、功率半导体、衬底材料、硅基微显示领域的清洗工艺。该机台主要由传输模块、工艺模块、药液供给系统、电源...
型号： Pinnacle3... 所在地：北京市参考价：面议更新时间：2024/9/4 15:03:36 对比

Pinnacle300 12英寸槽式清洗设备北方华创
6/8英寸全自动槽式清洗机
GAMA系列6/8英寸全自动槽式清洗机满足全部湿法工艺需求，覆盖RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等应用，可用于典型0.35um、0.1...
型号： GAMA Seri... 所在地：北京市参考价：面议更新时间：2024/9/4 15:01:01 对比

GAMA Series 6/8英寸全自动槽式清洗机北方华创
CMP
G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要运用于研发，操作简单，成本低。
型号： GNP POLI-... 所在地：韩国参考价：面议更新时间：2024/9/4 14:47:51 对比

半导体湿法化学机械抛光
12英寸立式中高温氧化炉
12英寸立式中高温氧化炉THEORIS X302H主要用于12英寸1000℃-1200℃高温和超高温氧化和退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处理过程实现了...
型号： THEORIS X... 所在地：北京市参考价：面议更新时间：2024/9/4 14:34:33 对比

THEORIS X302H/P 12英寸立式中高温氧化炉北方华创
高级研磨机
使用 Veeco 的 Optium® ASL 200™ 研磨系统实现更高水平的控制和 TFMH 工艺产量。这种高精度硬盘头研磨系统可大程度...
型号： Optium AS... 所在地：国外参考价：面议更新时间：2024/9/4 14:13:50 对比

研磨机晶圆研磨
CIF手套箱专用等离子清洗机
CIF手套箱专用等离子清洗机推出VGB-P系列手套箱专用等离子清洗设备，优化的腔体结构及合理的结构设计更适合手套箱内使用。安装简单方便，性能稳定，实用性强，容...
型号： VGB3/3plu... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/9/2 17:07:31 对比

等离子清洗机清洗机
单晶炉
直拉法晶体生长系统SC28单晶炉专为200-300毫米（8-12英寸）单晶硅的工业生产而设计。该系统可灵活配置，满足客户对产品的特殊要求，例如客户要求的炉室部件...
型号： SC28 所在地：美国参考价：面议更新时间：2024/8/15 14:34:50 对比

半导体晶圆单晶炉
碳化硅高温退火炉
VERIC A6151A 碳化硅高温退火炉适用于碳化硅高温激活 & 退火的设备
型号： VERIC A61... 所在地：北京市参考价：面议更新时间：2024/8/14 14:15:47 对比

碳化硅高温退火炉 VERIC A6151A
LSA 101 激光退火炉
Veeco 的 LSA101 系统安装在的 IDM 和晶圆代工厂，是大批量制造 40nm 至 14nm 节点的先进逻辑器件的技术。LSA 101 的扫描技术基于...
型号：所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/13 10:43:38 对比

激光退火
半自动单轴减薄机
半自动单轴减薄机是一款操作简单、功能丰富、性价比高的高精度研削设备，采用手动装片方式，配置自动厚度测量和补偿系统，可自动研削至目标值。工作台可根据客户需求进行定...
型号： IVG-2020/... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/13 10:40:39 对比

减薄机

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