1. 产品概述：
THEORIS X302主要用于12英寸600℃-1200℃氧化及退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处理过程实现了高度自动化。系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。
2. 设备应用：
晶圆尺寸
12英寸
适用材料
硅
适用工艺
高温干/湿氧氧化、DCE氧化、掺氮氧化、高温退火
适用领域
先进集成电路、功率半导体、衬底材料
3. 特色参数：
湿氧氧化工艺是在氧气中加入水汽来进行氧化反应。北方华创 THEORIS X302 氧化炉设备在湿氧氧化工艺中表现出色。它能够精确控制水汽的含量和输入方式，以实现对氧化膜生长速率和质量的精准调控。在温度控制上，同样具备高精度的特点，确保在湿氧环境下硅片受热均匀，从而形成均匀、致密的氧化膜。气体流量的调节也非常精准，能够根据工艺需求灵活调整氧气和水汽的比例，满足不同产品对湿氧氧化工艺的特殊要求。其优秀的工艺稳定性和重复性，使得湿氧氧化工艺的结果可预测且可靠。
4.设备特点
先进的颗粒控制技术
先进的金属污染控制技术
高精度温度场控制技术
支持快速升/降温度技术
高产能
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