其他前道工艺设备,其他前道工艺设备价格|报价-深圳市矢量科学仪器有限公司

化学机械抛光机CMP
化学机械抛光机CMP简介：1. 该化学机械抛光机可用于各类半导体集成电路、氧化物、金属、STI、SOI等产品的CMP平坦化抛光。通过更换抛光头可兼容4、6、8...
型号： customize... 所在地：国外参考价：面议更新时间：2024/9/6 17:04:26 对比

化学机械抛光机抛光机机械抛光机 MCF
划片机
精密划片机，划片机简介：半导体晶圆、集成电路、QFN、发光二极管、LED芯片、太阳能电池、电子基片等的划切，适用于包括硅、石英、陶瓷、氧化铝、氧化铁、砷化镓、铌...
型号： customize... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/9/6 16:50:42 对比

划片机精密划片机激光划片机
CMP后清洗机
CMP后清洗机简介：该系列设备是晶圆CMP后的专用清洗设备，有单工位、转位式、连线式等不同结构，以适用不同应用场景，其中连线式设备加配全自动上下片系统。该系列...
型号： customize... 所在地：国外参考价：面议更新时间：2024/9/6 16:48:45 对比

CMP后清洗机干法清洗设备干法工艺设备 G＆P
减薄机
减薄机简介：1. 可根据客户需求定制化各类工作台，满足各类半导体材料的研削薄化工艺2. 最大晶圆尺寸：8英寸3. 砂轮规格：Ø203(OD)mm4....
型号： customize... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/9/6 16:35:54 对比

半导体组装与封装减薄机梦启
半导体研磨抛光机
半导体研磨抛光机是一款操作简单的桌面型单面抛光设备，可搭配铜盘、锡盘、玻璃盘、不锈钢盘等，配合不同类型的抛光液，适用于各种半导体材料的研磨抛光，满足科研院校、企...
型号： customize... 所在地：德国参考价：面议更新时间：2024/9/6 16:28:32 对比

半导体研磨抛光机半导体研磨机抛光机化学机械抛光机
中央供药系统
中央供药系统简介：1.用于厂内供药，通过该系统可以按照设定的配比，将特定的药液通过相应的管路供应到制程中。2.该系统供药配比精确，配方可根据客户需要进行编辑确认...
型号： customize... 所在地：苏州市参考价：面议更新时间：2024/9/6 16:19:03 对比

中央供药系统供药系统智程
全自动SCRUBBER清洗机
全自动SCRUBBER清洗机简介：清洗机可以用于对晶圆表面，背面及晶圆边缘的清洗，通过创新研发的二流体喷嘴技术可将附着在晶圆表面的细微颗粒污染物去除。通过大...
型号： customize... 所在地：上海市参考价：面议更新时间：2024/9/6 16:07:41 对比

全自动清洗机湿法清洗设备 customized
紫外线臭氧清洗机
UV-300H是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。通过滑动抽屉将基材装入系统中。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段性加热的组合，可温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半...
型号： UV-300H 所在地：国外参考价：面议更新时间：2024/9/6 15:39:31 对比

紫外线臭氧清洗机 UV-300H SAMCO
紫外线臭氧清洗机
UV-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（GaN、GaAs、InP、SiC...
型号： UV-1 所在地：国外参考价：面议更新时间：2024/9/6 15:30:45 对比

紫外线臭氧清洗机 UV-1 SAMCO
全自动CMP抛光机
全自动CMP抛光机是一款针对薄膜（介质层）的全自动抛光设备，操作便捷，兼容性强，通过更换抛光压头实现不同尺寸晶圆的兼容，采用自动化装片方式，机械手自动取放片，同...
型号： TPC-2110 所在地：北京市参考价：面议更新时间：2024/9/6 15:27:31 对比

抛光
等离子清洗设备
PC-300等离子清洗设备是一种平行板式等离子清洗机，用于清洗样品表面的有机和无机污染。该工艺室允许用户安装多个电架，架式电配置的灵活性支持从研究到小批量生产的...
型号： PC-300 所在地：国外参考价：面议更新时间：2024/9/6 15:27:23 对比

等离子清洗设备 PC-300 SAMCO
CMP抛光机
CMP抛光机是一款针对薄膜（介质层）的抛光设备，操作便捷，兼容性强，通过更换抛光压头实现不同尺寸晶圆的兼容，采用手动装片方式，可配置半自动loading系统，气...
型号： TMP-150A/... 所在地：北京市参考价：面议更新时间：2024/9/6 15:23:56 对比

抛光机
cmp抛光机
POLI-400Lcmp抛光机是4&6英寸小型化学机械抛光机，采用手动装片方式，气囊薄膜柔性加压，可配置摩擦力&温度终点监控系统，用于氧化物、金属、STI、SO...
型号： POLI-400L 所在地：北京市参考价：面议更新时间：2024/9/6 15:17:26 对比

抛光机
CMP抛光机
POLI-500是小型8英寸CMP机台，采用手动装片方式，可选配半自动loading托盘，气囊薄膜柔性加压，可配置摩擦力&温度终点监控系统，用于氧化物、金属、S...
型号： POLI-500 所在地：北京市参考价：面议更新时间：2024/9/6 15:16:20 对比

CMP
CMP抛光机
POLI-762是小型12英寸CMP机台，采用手动装片方式，可选配半自动loading托盘，气囊薄膜柔性加压，可配置摩擦力&温度终点监控系统，用于氧化物、金属、...
型号： POLI-762 所在地：国外参考价：面议更新时间：2024/9/6 15:15:12 对比

抛光机
LSA 101 激光尖峰退火设备
LSA 101 激光尖峰退火设备系统安装的 IDM 和晶圆代工厂，是大批量制造 40nm 至 140nm 节点的先进逻辑器件的技术。LSA 101 的扫描技术...
型号：所在地：国外参考价：面议更新时间：2024/9/6 15:13:03 对比

退火炉激光退火
离子注入机
离子注入机是高压小型加速器中的一种，应用数量最多。它是由离子源得到所需要的离子，经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流，用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离...
型号： customize... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/9/6 14:25:56 对比

离子注入机离子注入设备离子注入爱发科 ULVAC
快速退火炉RTP
快速退火炉RTP主要功能：快速热退火，快速热氧化，快速热氮化，扩散，化合物半导体退火，离子注入后退火，电极合金化等。样片尺寸：8inch，向下兼容，支持不规整样...
型号： customize... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/9/6 14:21:08 对比

快速退火炉RTP 快速退火炉退火炉 UNITEMP 尤尼坦
电镀设备
电镀设备应用领域：Pillar，Bump，RDL，TSV等工艺 (3) 设备配置：最多3个loadport ; 最多24个电镀腔体：Cu、Ni、Sn/Ag、...
型号： customize... 所在地：苏州市参考价：面议更新时间：2024/9/6 14:17:52 对比

电镀设备
激光退火设备
半导体激光退火机是用于半导体制造过程中的一种设备。退火是一种热处理过程，通过加热半导体材料来改变其性质，以实现所需的特性，如电导率、晶体结构和应力缓解。半导体激...
型号： customize... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/9/6 14:14:17 对比

激光退火设备退火炉华卓精科 customized

深圳市矢量科学仪器有限公司

深圳市矢量科学仪器有限公司

收藏该商铺

提示

深圳市矢量科学仪器有限公司

深圳市矢量科学仪器有限公司

会员登录

收藏该商铺

提示