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  • IVG-2040/3040 --全自动单轴减薄机

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  • CMP

    GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工艺而开发，也为先进晶圆制造商和耗材供应商设计的。GNP POLI-500广泛用于耗材供应商，衬...
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    APS系列 感应式碳化硅长晶炉，适用于 6 英寸、8 英寸，导电 / 高纯半绝缘型 SiC 晶体生长。
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  • 电阻式碳化硅长晶炉

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  • CMP后清洗机

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  • CMP后清洗机

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  • 紫外线臭氧清洗设备

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