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全部 热门 推荐

  • 自动氦检漏设备

    自动氦检漏设备ALT·S系列（SUPER ALT）使用He作为检知气体的设备。应用ULVAC技术，运用全新机构，使得省空间、高速、全自动处理成为可能。
    型号： ALT·... 所在地：国外 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 14:04:05 对比
    自动氦检漏设备爱发科ULVACALT·S系列

  • 小型冻结真空干燥设备

    小型冻结真空干燥设备DFM系列医药域的少量生产以及，实验用冻结真空干燥设备。具有省空间、低价格、高功能等实验用途要求。为了满足这样的需求，爱发科商品化了DFM系...
    型号： DFM系列 所在地：国外 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 11:44:29 对比
    小型冻结真空干燥设备DFM系列真空干燥设备

  • 晶片清洗机

    本机是一款全自动晶片刷洗机，全程封闭环境采用机械手自动操作，具备刷洗甩干功能，适用于各种半导体衬底材料抛光后的刷洗，可有效减少晶片表面颗粒污染。
    型号： TWB-200 所在地：深圳市 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 11:38:32 对比
    CMP

  • 真空炉

    真空炉FB系列安装了EGR冷却器、散热器、蒸发器等各种热交换器的真空炉设备。公司开发了从批次式到连续炉的丰富产品系列。同时面向特殊用途的设备定制。
    型号： FB系列 所在地：国外 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 11:34:56 对比
    真空炉FB系列

  • LSA 201 环境控制激光尖峰退火设备

    Veeco 的 LSA201 激光尖峰退火 （LSA） 系统具有与 LSA101 相同的架构，可在扫描激光系统中实现全晶圆环境控制。该微室在于它不需要使用真空负...
    型号： 所在地：深圳市 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 11:32:20 对比
    激光退火退火炉

  • 去胶设备

    去胶设备NA-1300系列从关键的新世代晶圆制程到晶圆封装，Luminous NA系列可对应广范围的各类晶圆尺寸的各类工艺需求。
    型号： NA-1300系列 所在地：国外 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 11:22:54 对比
    去胶设备NA-1300系列

  • CMP后清洗机

    该系列设备是碳化硅晶圆抛光后的专用清洗设备，采用连线式结构，设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，...
    型号： TSC-150C/... 所在地：深圳市 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 11:22:51 对比
    CMP后清洗

  • CMP后清洗机

    该系列设备是晶圆CMP后的专用清洗设备，有单工位、转位式、连线式等不同结构，以适用不同应用场景，其中连线式设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗...
    型号： TSC-100/3... 所在地：深圳市 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 11:15:58 对比
    CMP

  • 离子注入设备

    高能对应离子注入设备SOPHI-400可达2400KeV的高能离子注入设备。
    型号： SOPHI-400 所在地：国外 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 11:12:16 对比
    离子注入设备SOPHI-400

  • 离子注入设备

    可对应低速高浓度的离子注入设备SOPHI-30低加速、高浓度对应的离子注入设备。
    型号： SOPHI-30 所在地：国外 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 11:11:02 对比
    离子注入设备SOPHI-30

  • 离子注入设备

    研究开发用中电流离子注入设备IMX-3500中电流离子注入装置IMX-3500为大能量200keV、对应大晶圆尺寸8inch的离子注入装置，适用于大学等机构的研...
    型号： IMX-3500 所在地：国外 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 11:00:40 对比
    IMX-3500离子注入设备

  • 大气式等离子清洁系统

    PlasmaPen™ 是PVA TePla的大气式等离子清洁系统，可满足各种表面处理要求，如表面清洁及表面活化。
    型号： PlasmaPen... 所在地：美国 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 10:54:52 对比
    半导体前道清洗

  • SiC用高温离子注入设备

    SiC用高温离子注入设备 IH-860DSIC搭载了高温ESC（静电吸附卡盘）的面向SiC量产用的高能粒子注入装置。
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  • 单片式化学清洗机

    KS-CM300/200 单片式化学清洗机适用于沉积前清洗、蚀刻后清洗、离子注入后清洗、CMP后清洗等多种前段工艺（FEOL）和后段工艺（BEOL）清洗进程，可...
    型号： KS-CM300/... 所在地：沈阳市 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 10:21:11 对比
    清洗设备

  • 自然氧化膜去除设备

    自然氧化膜去除设备去除设备RISE-300批处理式自然氧化膜去除设备RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等难以去除的自然氧化膜...
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  • 晶圆湿法清洗工作台

    WaferStorm平台是先进封装、MEMS、射频、数据存储和光子学市场中许多关键溶剂型工艺的行业选择。有 2 个版本——手动加载 （ML） 和 3300 系列...
    型号： 3300系列 所在地：国外 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 10:05:35 对比
    晶圆清洗清洗设备

  • TCO激光划线设备

    TCO激光划线设备ULT-1400本设备通过近红外脉冲激光烧蚀法除去玻璃基板上成膜的透明电（TCO）膜，是一种枚用式激光划线设备。本设备由6个IR激光法阵器和光...
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    TCO激光划线设备ULT-1400去胶设备

  • 清洗设备

    SUSS MicroTecs ASx 系列为加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技术节点提供了优良的烘烤、显影和清洁方法。其可靠性、稳定性和高性能使平台能...
    型号： ASx 系列 所在地：国外 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 9:37:45 对比
    SUSS清洗设备研磨

  • 功率分析仪

    功率分析仪能够测量功率参数，并能够实时显示四个通道的电压、电流和功率迹线，通过一台高速数字化仪显示瞬态、冲击电流和状态变化，在时域或频域中分析电压、电流和功率。
    型号： 所在地：深圳市 参考价： 面议 更新时间：2024/9/6 9:13:28 对比
    功率分析仪vvvvv电压测试电流测试功率测试

  • 动态功率器件分析仪/双脉冲测试仪

    动态功率器件分析仪/双脉冲测试仪 性能介绍： 1.作为现成的测量解决方案，PD1500A 可以对宽带隙半导体进行可靠且可重复的测量。 该平台不仅可以确保用户的安...
    型号： 所在地：深圳市 参考价： 面议 更新时间：2024/9/5 21:07:39 对比
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