MKS ASTRON2L RPS 半导体远程等离子源是在半导体产线沉积和蚀刻室清洁工艺中的发挥关键作用的子组件，可以消除工艺副产物从室壁积聚，增加工艺工具的寿命...

MKS 远程等离子体源 ASTRON hf-s 15L RPS 是沉积和蚀刻室清洁工艺的关键子组件，消除了工艺副产物从室壁积聚，增加工艺工具的寿命，并减少薄膜污...

AE Rapid OE RPS 远程等离子体源是适用于氧气类过程的远程等离子体源，内部采用可拆卸石英内衬，可减少复合效应，延长氧自由基的寿命。

MKS 远程等离子体源 Paragon F* 8SLM RPS 是用于清洁应用的智能远程等离子体源，为了清洁CVD和ALD/ALE腔室，Paragon远程等离子...

MKS 远程等离子体源 Paragon 8SML RPS是用于清洁应用的智能远程等离子体源，为了清洁CVD和ALD/ALE腔室，Paragon远程等离子体源有高...

AE XSTREAM 远程等离子体源 RPS 是采用集成主动匹配网络用于大流量高压反应性气体工艺的全集成等离子体源平台。

MKS 远程等离子体源 ASTRON HF 15L RPS 是沉积和蚀刻室清洁工艺的关键子组件，消除了工艺副产物从室壁积聚，增加工艺工具的寿命，并减少薄膜污染的...

MKS Revolution RPS AX7690 远程等离子源是一款能为半导体芯片加工提供所需的高性能和清洁的活性气体源的集成式远程等离子体源。