MKS ASTRON2L RPS 半导体远程等离子源是在半导体产线沉积和蚀刻室清洁工艺中的发挥关键作用的子组件,可以消除工艺副产物从室壁积聚,增加工艺工具的寿命...
MKS 远程等离子体源 ASTRON hf-s 15L RPS 是沉积和蚀刻室清洁工艺的关键子组件,消除了工艺副产物从室壁积聚,增加工艺工具的寿命,并减少薄膜污...
MKS 远程等离子体源 ASTRON HF 15L RPS 是沉积和蚀刻室清洁工艺的关键子组件,消除了工艺副产物从室壁积聚,增加工艺工具的寿命,并减少薄膜污染的...
MKS Revolution RPS AX7690 远程等离子源是一款能为半导体芯片加工提供所需的高性能和清洁的活性气体源的集成式远程等离子体源。
请输入账号
请输入密码
请输验证码
以上信息由企业自行提供,信息内容的真实性、准确性和合法性由相关企业负责,化工仪器网对此不承担任何保证责任。
温馨提示:为规避购买风险,建议您在购买产品前务必确认供应商资质及产品质量。