AE XSTREAM 远程等离子体源 RPS 返回列表页

AE XSTREAM 远程等离子体源 RPS 是采用集成主动匹配网络用于大流量高压反应性气体工艺的全集成等离子体源平台。高效Xstream平台安装在处理腔外部，使用稳定进气产生中性的反应性粒子，主要用于表面改性、腔室清洗、薄膜刻蚀和等离子体辅助沉积。Xstream平台集成了远程等离子体源、8kW或10kW高效电源、优良的固态主动匹配网络，可用于最宽的腔室清洗源商用阻抗工作范围。Xstream平台为工艺工程师提供了优秀的反应性气体工艺灵活性，从而提高系统通量和优化使用昂贵的等离子体源。

AE XSTREAM 远程等离子体源 RPS 优点

1. 有效优化使用昂贵资源

2. 提供最宽的商用阻抗工作范围

3. 无缝使用多种化学物质，包括现有的PFC / O₂ 原位腔室清洗工艺方案

4. 提升工艺性能、灵活性和通量                                                      

5. 实现原位和远程CVD腔室清洗的流线型改造

6. 利用原有AE主动匹配网络技术

AE XSTREAM RPS 特点

1. 固态板载的主动匹配网络

2. 全集成的高效400kHz电源

3. 可选虚拟前面板（VFP）的直观实时软件用户界面

4. 低水耗

5. 硬质阳极氧化处理、低颗粒的耐腐蚀金属源腔室

6. 检测等离子体实际供电的高级监测电路

7. 读回信号用于系统集成和监控