KLA/科磊

方块电阻测量仪 薄膜厚度测量仪 表面缺陷检测系统 纳米压痕仪 光学轮廓仪 探针式轮廓仪

薄膜测量系统

接触角测量系统 椭偏仪 光谱反射仪 薄膜应力测量系统

微组装系统

WB-200 半自动引线键合机

Deposition沉积系统

AT-400原子层沉积

Megasonic Clean /兆声清洗系统

批量型兆声清洗系统

测量仪器

声表面波SAW功率发生器

ECOPIA/韩国

HMS-3300霍尔效应测试仪 HMS-3000霍尔效应测试仪

Etching/等离子蚀刻系统

等离子刻蚀ICP

Thin Film薄膜沉积系统

高密度化学气相沉积系统 PECVD沉积

美国杜邦Dupont

光刻胶蚀刻残留物清洗剂 Post-CMP Cleans 光刻胶蚀刻残留物清洗剂 Post-Etch Cleans 光刻胶蚀刻残留物清洗剂 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻胶蚀刻残留物清洗剂 Post-Patterning Cleans 光刻胶蚀刻残留物清洗剂Emerging Cleans

Ethcing/等离子蚀刻系统

等离子刻蚀ICP

Probe station/探针台

磁体探针台 低温探针台

紫外掩膜对准曝光系统

紫外掩膜对准曝光系统 紫外掩膜曝光机

快速退火炉

快速退火炉

生命科学

人体运动能耗监测仪

PIE scientific/美国

Semi-KLEEN Sapphire 等离子清洗机 SEMI-KLEEN UHV等离子体清洗机 Semi-KLEEN Quartz石英等离子体清洗机 EM-KLEEN等离子体清洗机 Tergeo-EM TEM/SEM 等离子体清洗机 Tergeo-Pro桌面等离子清洗机 Tergeo-Plus桌面等离子清洗机 Tergeo桌面等离子清洗机 离子源 气体混配器 多用途样品清洁及储存腔室 TEM 样品架真空泵站

JFP microtechnic/法国

检测相机 返工工作站 激光叠片机 / 拆片机 划刻器 MPT手动拉力测试仪 焊线机 芯片键合机

OAI/美国

Model 32 UV LED 光源 Model 30 准直紫外光源及曝光系统 MCP-T710 电阻仪 MCP-T380通用便携式电阻率仪 Model 659 紫外线光强与能量计 Model 308 紫外线光度计 太阳能电池高性能测试夹具 太阳能功率计 集成式 IV 光伏测试系统 AML 原位对准晶圆键合机 CPV 聚光太阳模拟器 AAA 标准太阳模拟器 Model 6020 全自动掩模曝光机 Model 6000 生产型掩膜曝光机 Model 2000 边缘去胶紫外泛光曝光机 Model 800E 紫外掩膜曝光机 Model 212 紫外掩膜曝光机 Model 200 紫外掩膜曝光机

Unitemp/德国

RSS-160-SC 紧凑型回流焊系统 2Z-HVS-200 高真空封装机 2Z-HVS-100 高真空封装机 VSS-650 真空焊接系统 RSS-3X210 紧凑型回流焊系统 RSO-300 真空烧结炉回流焊系统 RSO-210 真空烧结炉回流焊系统 VSS-450-300 台式真空烧结炉 RSS-210-S 台式真空烧结炉回流焊系统 RSS-110-S 迷你真空烧结炉回流焊系统 RSS-160-S 迷你真空烧结炉回流焊系统

NanoMagnetics/英国

USB 光纤干涉仪 hpSPM 扫描探针显微镜控制器 NMI 纳米定位器 NMI 振动样品磁力计 LT-AC/DC 台式霍尔效应测量系统 XYZ 低温压电扫描仪 mK-CFM/RAMAN 低温显微镜 LT-APO 低温物镜 NMI 低温恒温器 NV-中心共聚焦低温显微镜 LT-sSNOM 低温显微镜 LT-SHPM/STM 低温显微镜 LT-AFM/MFM 低温显微镜 hpAFM 原子力显微镜 ezSTM 扫描隧道显微镜 ezAFM+ 便携式原子力显微镜 ezAFM 便携式原子力显微镜 光霍尔效应测试仪 纳秒瞬态吸收光谱仪

Reflow Oven /回流焊

高真空MEMS焊封机

EXADDON

CERES 微纳米级纯金属3D打印系统

ANRIC

AT810 经济性原子层沉积设备 AT610 经济性原子层沉积设备 AT200M 经济型原子层沉积设备 AT410 经济型原子层沉积设备 AT650/850P 台式等离子原子层沉积设备 AT 臭氧发生器 AT650/850T 台式热原子层沉积设备

KLA-Tencor

OAI

NanoMagnetics

JFP microtechnic

其他品牌

UNITEMP/尤尼坦

ANRIC

DuPont/杜邦

PIE scientific

EXADDON