离子体灰化蚀刻系统 参考价:面议
等离子体灰化蚀刻系统e3600采用zuixin的光刻胶去除技术,为去除晶圆光刻胶提供高效方案。可以在不改变硬件的情况下同时处理不同尺寸的晶圆。HBM模型测试仪 参考价:150000
HBM模型测试仪适合半导体器件、模块和分立器件测试,适用于静电放电敏感元件(ESD)特别是人体模型(HBM)。矢量网络分析仪校准器,VNA自动校准仪 参考价:面议
该矢量网络分析仪校准器模块通过USB或5.5 DC连接器通电,并通过USB或LAN与VNA进行通信,通过一个启动按钮,可通过VNA的四端口校准完成一个端口。高级等离子体表面处理系统,表面活化增强 参考价:面议
高级等离子体表面处理系统NEBULA是为器件等离子体处理设计的大型等离子体处理机器,离子体表面处理系统NEBULA用于等离子体清洁、附着力改善,等离子体表面活化...大型旋涂仪,光刻胶匀胶,甩胶 参考价:面议
大型旋涂仪POLOS450是为光刻胶匀胶甩胶应用设计的高精度旋涂仪器,适用于直径450mm以下的基片使用。全自动匀胶机,旋涂机,匀胶仪 参考价:面议
这款全自动匀胶机是进口自动匀胶仪器,采用功能强大的旋涂机系统专为所有应用的研究和可变工艺而设计。