等离子体灰化蚀刻系统e3600采用zuixin的光刻胶去除技术,为去除晶圆光刻胶提供高效方案。可以在不改变硬件的情况下同时处理不同尺寸的晶圆。

科研型原子层沉积系统ALD系芬兰picosun公司R-200 standard原子层沉积技术,热壁设计和单独的入口，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有...

ALD系统AT410提供了用于3D样品制备的共形导电薄膜解决方案，同时还提供了目前使用溅射/蒸发生长的传统2D涂层。

COVAP物理气相沉积系统为许多工艺应用提供紧凑、经济、但仍然稳健的PVD解决方案。

离子束沉积系统IBD采用真空沉积工艺，使用直接聚焦在溅射靶上的宽束离子源实现离子束沉积溅射镀膜。然后，来自靶材的溅射材料沉积在附近的衬底上形成薄膜。

电子束蒸发系统EB-4P也是电子束沉积系统,有四个容量不同的袖珍坩埚和各种电源,可以添加热阻源或直流和射频溅射或蚀刻。

反应离子刻蚀系统​​​​​​​RIE600W是一款进口等离子体反应离子蚀刻机,用于各向同性蚀刻,蚀刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜。

​​​​​​​感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE由射频电源感应产生等离子体,以产生各向异性蚀刻。在基本ICP-RIE蚀刻系统中，射频直接连接到用作电极的样品台...

该矢量网络分析仪校准器模块通过USB或5.5 DC连接器通电，并通过USB或LAN与VNA进行通信，通过一个启动按钮，可通过VNA的四端口校准完成一个端口。

高级等离子体表面处理系统NEBULA是为器件等离子体处理设计的大型等离子体处理机器,离子体表面处理系统NEBULA用于等离子体清洁、附着力改善,等离子体表面活化...