大基片清洗系统

大基片清洗系统

NANO-MASTER的大基片清洗机(LSC)是一个独立式的兆声清洗系统，可支持高达21"OD的基片。相较SWC可通过触摸屏实现更好的控制，且允许操作人员、工程师、维护人员等访问权限。LSC具有与SWC相同的兆声清洗技术和化学液清洗。LabView控制和更大工艺腔体的组合，可支持更多的选配项，如臭氧化DIW、高压DIW、带保护膜的分划板清洗和白骨化清洗。同样支持显影和刻蚀应用。单晶片和Cassette机械手自动上下片可选择。

设备特点：

• 支持对角线21"、15"×15"基片和450mm圆片

• 无损兆声清洗

• 不同速度的PVA刷子

• 化学液分布，带回吸阀

• 旋转甩干，带热氮

• 双排放口，酸和溶剂独立排放

• 全自动计算机控制，菜单驱动

• 触摸屏用户界面

• 手动上下片，可升级为自动

• 安全联锁和警报

• 小占地面积32" D×28"W

选配项：

应用：

• 硅片和蓝宝石片清洗

• 后CMP晶圆片清洗

• 带晶圆框架的芯片清洗

• FSI清洗

• 显示平板，ITO涂层显示屏清洗

• 带图案及无图案掩模板清洗

• 带保护膜分划版的背面清洗

• 薄膜结构胶粘剂清洗

• 光刻胶涂覆、剥离和Piranha去胶

• 背面多晶去除

• 显影和其它刻蚀应用