激光直写无掩膜光刻机 参考价:面议
激光直写无掩膜光刻机紫外光直写曝光 ,无需掩模,大幅节约了掩模加工费用,灵活性高,可直接通过电脑设计光刻图形,并可根据设计要求随意调整,可升级开放性系统设计,按...全自动光刻机 参考价:面议
全自动光刻机公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机,是韩国*家研发并商业化光罩对准曝光机的企业,始终...纳米压印系统-光刻机 参考价:面议
纳米压印系统-光刻机介绍了一个台式、独立的纳米压印平台。该平台提供了一个带有微型定位夹具的机械平台,用于安装纳米压印室、紫外线固化spin coater匀胶机 参考价:面议
spin coater匀胶机既在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转...硅穿孔工艺设备-光刻机 参考价:面议
硅穿孔工艺设备-光刻机晶圆和晶圆之间制作垂直导通,实现芯片之间互连的新技术。能够使芯片在三维方向堆叠的密度大,芯片之间的互连线短,外形尺寸小,并且大大改善芯片速...大气等离子体系统 参考价:面议
大气等离子体系统机器人工业化设计中使用的*定制单元:10米线便可轻松集成至各种系统中的PS2000高压单元和PB3等离子体发生器。手持低温等离子体源 参考价:面议
手持低温等离子体源--基于压电变压器直接放电,同时在元件的输出端直接产生冷等离子,等离子通过电离空气或气体来形成。集成式低温等离子体源 参考价:面议
集成式低温等离子体源--基于压电变压器直接放电,同时在元件的输出端直接产生冷等离子,等离子通过电离空气或气体来形成。空气监测系统-气溶胶设备(德国) 参考价:面议
空气监测系统-气溶胶设备(德国)空气监测系统NO, NO2, O3, CO, SO2, 探头区域温度,气压,相对湿度,平均噪音,峰值噪音,颗粒计数,PM1, P...大气监测无人机-气溶胶设备(德国) 参考价:面议
大气监测无人机-气溶胶设备(德国)Hours是新一代大气监测无人机,它结合了目前流行的多旋翼无人机特点和大气监测系统,可以实现对空中,河流上方等无法到达的位置等...便携式粒径谱仪-气溶胶设备(德国) 参考价:面议
便携式粒径谱仪-气溶胶设备(德国)便携式粒径谱仪具有稳定的输出和更长的使用寿命。所有系统包括一个可插入式过滤器(直径47或50毫米)的接口。因此进行气溶胶组成成...气溶胶粒径谱仪2-德国设备 参考价:面议
气溶胶粒径谱仪2-德国设备气溶胶粒径谱仪21.光散射原理,90度散射角检测 2.T型孔传感器技术,消除了边缘效应和重叠粒子计数 3.分辨率高 4.准确度和稳定性...盐雾气溶胶发生器-德国设备 参考价:面议
盐雾气溶胶发生器-德国设备悬浮液、溶液和生物制剂中固体颗粒的生成优势良好的短期和长期气溶胶稳定性可调粒径宽范围储液罐易加注大型储液罐(500 cm3)坚固的设计...气溶胶稀释器-德国设备 参考价:面议
气溶胶稀释器-德国设备它能降低颗粒物入口浓度,使颗粒物的入口浓度在仪器操作高敏感、高精度的范围内。它有两档标准的稀释率,即100:1和10:1,两台稀释器串连使...扫描电迁移率粒径谱仪-气溶胶设备(德国) 参考价:面议
扫描电迁移率粒径谱仪-气溶胶设备(德国)纳米颗粒粒径谱仪• 气溶胶测量粒径分布, 3 nm to 1.2 μm• 可连续快速操作• 高分辨率: 64通道• 测量...ISO16890滤料测试系统-气溶胶设备(德国) 参考价:面议
ISO16890滤料测试系统-气溶胶设备(德国)ISO16890滤料测试系统不同系统配置可用于测试滤料、小型过滤元件、高效过滤器、一般通风过滤器、压缩空气过滤器...油雾气溶胶发生器-德国设备 参考价:面议
油雾气溶胶发生器-德国设备油雾常见于研究和质量检验行业中。在特定的质量检验和颗粒测量设备的校正中,Palas公司的气溶胶发生器确保在可靠的参数条件下,结果稳定可...热舟蒸发源-真空组件 参考价:面议
热舟蒸发源-真空组件应用范围: 薄层沉积; 光学涂覆; 混合层沉积; 金属电极接触。俄歇电子能量谱-真空组件 参考价:面议
俄歇电子能量谱-真空组件俄歇电子能量谱是一种利用高能电子束为激发源的表面分析技术. AES分析区域受激原子发射出具有元素特征的俄歇电子。俄歇电子在固体中运行也同...等离子体原子/离子源-真空组件 参考价:面议
等离子体原子/离子源-真空组件产生感应耦合等离子体,包括氮气,氧气和氢气等分子气体。使用1个射频线圈(频率13.56MHz),能量将转化为等离子体,这会产生仅具...半球型电子能量分析谱-真空组件 参考价:面议
半球型电子能量分析谱-真空组件大型高透射半球形电子能量分析谱--120mm半径.¨ 全程180度反转角度.¨ 边缘界线区域校正--使用Jos...电子束蒸发源-真空组件 参考价:面议
电子束蒸发源-真空组件电子束蒸发源对于使用常用热蒸发技术非常难蒸发的材料,电子束蒸发是一种有效的蒸发手段.通过高能电子束射向靶材来升高靶材温度.相比于通常辐射或...磁控溅射靶源-真空组件 参考价:面议
磁控溅射靶源-真空组件我司提供的磁控溅射源是目前一和超高真空系统(1e-11torr)匹配的商业用溅射源。 在不配置弹性垫圈的结构中,可烘烤至250℃。在匹配的...IG2离子源-超高真空 参考价:面议
IIG2离子源-超高真空典型应用是氩离子溅射清洗表面(中科院物理所配置多套IG2型离子源)溅射清洗 /表面准备,用于表面科学,MBE ,高真空溅射过程离子辅助沉...