原子层沉积镀膜系统 参考价：面议
原子层沉积镀膜系统1.ALD （传统的热原子层沉积）；2.PEALD （等离子增强原子层沉积）；3.Powder ALD （粉末样品的原子层沉积）；
无掩膜曝光机-光刻机 参考价：面议
无掩膜曝光机-光刻机美国IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩...
匀胶机、旋涂仪（德国产、高性能） 参考价：面议
匀胶机、旋涂仪（德国产、高性能）SPIN150i单片匀胶机/旋涂仪具有广泛应用，包括甩干，冲洗，清洁，涂胶。台式设计，无缝全塑料材质， 有天然聚丙烯（NPP）和...
显影机-匀胶机 参考价：面议
显影机-匀胶机显影机 /湿法刻蚀机德国品质（配有防污染内衬，标配两个大小吸盘，性能优于美国同类品牌）高精度，高可靠性，耐腐蚀，来源德国，多程序控制。
半球电子能量分析器-真空组件 参考价：面议
半球电子能量分析器-真空组件半球电子能量分析器半径: 120mm反转角度: 180 deg.
皮可安培计（USB接口）-材料表征 参考价：面议
皮可安培计（USB接口）-材料表征技术参数：接口输入: BNC; 模拟输出偏压选项：无偏压/ 内置偏压 （± 90 V DC）/ 外置偏压 （BNC）
磁控溅射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空组件 参考价：面议
磁控溅射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空组件磁控溅射源/靶枪（1英寸/2英寸/3英寸）我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩...
真空腔体水气解吸附组件2 参考价：面议
真空腔体水气解吸附组件2ZCUVE代表了水蒸气解吸技术的新进展。*的设计可从2.75“扩展到8"法兰尺寸，紫外线功率因数w按比例增加
射频离子/原子源（可转换）-真空组件 参考价：面议
射频离子/原子源（可转换）-真空组件射频离子源：用于离子束沉积，离子束辅助沉积，MEMS射频原子源：用于合成氧化物，氮化物，氢原子清洗
俄歇电子能谱仪（在线表面分析）-材料表征 参考价：面议
俄歇电子能谱仪（在线表面分析）-材料表征The microCMA is a compact （2.75“ CF mount） cylindrical mirro...
低能电子散射/俄歇谱仪 参考价：面议
低能电子散射/俄歇谱仪范围内的电子有很大的散射截面，因此背散射电子中绝大部分是被表面或近表面的原子散射回来的，这就使低能电子衍射（LEED）成为研究表面结构的一...
反向光电子发射枪及检测器 参考价：面议
反向光电子发射枪及检测器IPES is used to study the empty electronic states of solids. The sam...
X射线光源-真空组件 参考价：面议
X射线光源-真空组件X射线光源（可用于X射线电子能谱） 双阳极X射线光源多种阳极材料具有差分抽气或者从安装口抽气70mm O.D. CF安装法兰
溅射离子枪，等离子体发生源 参考价：面议
溅射离子枪，等离子体发生源溅射清洗/表面科学中样品表面处理, MBE and HV 溅射过程离子辅助沉积离子束溅射镀膜反应离子刻蚀
四袋电子束蒸发器 参考价：面议
四袋电子束蒸发器Beam Evaporator is an UHV evaporator for small and medium quantities of ...
电子枪（电子损失谱，俄歇电子能谱可用） 参考价：面议
电子枪（电子损失谱，俄歇电子能谱可用）¨ Low Energy Electron Gun designed for Electron Loss Spe...
台式磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
台式磁控溅射镀膜仪该系统可以作为以下功能装置：1，研发级R&D镀膜设备，性能优异2，具备所有研发级别的镀膜要求3，高效的沉积速率，镀膜时间快4， 实验室中培训的...
金属有机化学气相沉积镀膜系统（MOCVD） 参考价：面议
金属有机化学气相沉积镀膜系统（MOCVD）其反应器的设计可以根据工艺的需要很容易提升到满足大直径晶片生产的需要。我们也能为客户设计以满足客户特殊工艺和应用的需要...
超高真空多功能薄膜制备系统 参考价：面议
超高真空多功能薄膜制备系统此系统可以配置多种沉积方式（预留各种功能接口）,高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研. 高真空条件沉积模式（使用机械泵+分子泵，或冷凝...
有机分子束沉积镀膜系统 参考价：面议
有机分子束沉积镀膜系统电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Et...
在线量产型磁控溅射镀膜系统 参考价：面议
在线量产型磁控溅射镀膜系统 高转换效率大容量吸收，电池可靠性长达10年抗辐射
离子束抛光系统 参考价：面议
离子束抛光系统磁隧道结介电界面涂层Rugate FiltersHigh-k 材料形状记忆合金光电材料超导材料单一结晶GaN
离子束刻蚀设备 参考价：面议
离子束刻蚀设备离子抛光离子清洗等离子体灰化等离子体氧化、氮化表面改性 反应刻蚀 生物医药传感器
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积设备 参考价：面议
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积设备该系统中的PECVD可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。标准配置射频（...
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