您好, 欢迎来到化工仪器网

| 注册| 产品展厅| 收藏该商铺

13916855175

products

目录:科睿设备有限公司>>超高真空组件>> 磁控溅射靶源-真空组件

磁控溅射靶源-真空组件
  • 磁控溅射靶源-真空组件
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
  • 品牌 其他品牌
  • 型号
  • 厂商性质 代理商
  • 所在地 上海市
属性

$NV_PropertyInfoName.SubString(0,25)

>

更新时间:2025-02-27 13:53:52浏览次数:2582评价

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!

同类优质产品

更多产品
产地类别 国产 应用领域 电子/电池,电气,综合
磁控溅射靶源-真空组件
我司提供的磁控溅射源是目前一和超高真空系统(1e-11torr)匹配的商业用溅射源。 在不配置弹性垫圈的结构中,可烘烤至250℃。在匹配的超高真空环境下,可以实现超高纯度的溅射沉积。

磁控溅射靶源-真空组件

我司提供的磁控溅射源是目前一和超高真空系统(1e-11torr)匹配的商业用溅射源。 在不配置弹性垫圈的结构中,可烘烤至250℃。在匹配的超高真空环境下,可以实现超高纯度的溅射沉积。

磁控溅射靶源-真空组件
应用范围:
金属沉积;
电介质沉积;
复合物沉积。

技术参数:
不同型号溅射源可以选用不同靶材尺寸 .1",2",3" 等各种靶材尺寸均可使用;
靶材厚度薄,低至4mm,节约靶材;
溅射源法兰上带有气体管道,以便提高操作溅射源时的真空。
手动/马达驱动 挡板
溅射源可设计成原位倾斜,倾斜角度(+/-30º)
气体流量控制
进程全自动化
真空中可烘烤至250摄氏度;
占用空间小;
冷却水流量低,仅0.5L/min


会员登录

请输入账号

请输入密码

=

请输验证码

收藏该商铺

标签:
保存成功

(空格分隔,最多3个,单个标签最多10个字符)

常用:

提示

您的留言已提交成功!我们将在第一时间回复您~
在线留言

会员登录

请输入账号

请输入密码

=

请输验证码

收藏该商铺

该信息已收藏!
标签:
保存成功

(空格分隔,最多3个,单个标签最多10个字符)

常用:
热线电话 在线询价