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目录:科睿设备有限公司>>光刻机,匀胶机>> 纳米压印系统-光刻机

纳米压印系统-光刻机
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参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
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  • 品牌 其他品牌
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  • 厂商性质 代理商
  • 所在地 上海市
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更新时间:2025-02-27 14:36:39浏览次数:3275评价

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纳米压印系统-光刻机
介绍了一个台式、独立的纳米压印平台。该平台提供了一个带有微型定位夹具的机械平台,用于安装纳米压印室、紫外线固化

纳米压印系统-光刻机

引入了一个台式、独立的NanoImprint平台。
这个平台提供了一个带有微型定位夹具的机械平台,用于安装纳米压印室、紫外线固化源和校准显微镜。

它既可以作为纳米压印系统,也可以作为传统的掩模校准器,同时为整个压印过程提供可编程的自动控制。


我们纳米压印系统-光刻机的优势
•低于10纳米分辨率,99%的产量
•支持硬模具和软模具
•可变模具和基板尺寸提供的便利性和灵活性
•自动释放工艺可防止分离过程中的模具/基板损坏,并最大限度地提高每个印记的产量。
•自动释放工艺可防止分离过程中的模具/基板损坏,并最大限度地提高每个印记的产量。
•适用于各种应用的多功能流程:
•光学设备、显示器、数据存储、生物医学
•器件、半导体集成电路、化学合成和先进材料
•带触摸屏用户界面的可编程PLC允许通过定制参数进行过程控制
•专有的紫外固化纳米压印胶对硬度或厚度没有限制,并且与传统的光刻工艺兼容。

纳米压印系统-光刻机

纳米压印技术分为三个步骤。
第一步是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段,在硅或其他衬底上加工出所需要的结构作为模板。由于电子的衍射极限远小于光子,因此可以达到远高于光刻的分辨率。
第二步是图样的转移。在待加工的材料表面涂上光刻胶,然后将模板压在其表面,采用加压的方式使图案转移到光刻胶上。注意光刻胶不能被全部去除,防止模板与材料直接接触,损坏模板。
第三步是衬底的加工。用紫外光使光刻胶固化,移开模板后,用刻蚀液将上一步未去除的光刻胶刻蚀掉,露出待加工材料表面,然后使用化学刻蚀的方法进行加工,完成后去除全部光刻胶,最终得到高精度加工的材料。


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