mask aligner半自动光刻机 参考价：面议
mask aligner半自动光刻机该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究...
无掩膜光刻机, 激光直写系统 参考价：800000
无掩膜光刻机, 激光直写系统是一个高价值的直写激光光刻机系统，面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面...
负性光刻胶 （SU-8）-光刻机用 参考价：10000
负性光刻胶 （SU-8）-光刻机用SNR负性光刻胶，针对微机械加工微电子应用，高对比度，环氧树脂类负性光刻胶。具有垂直侧壁的高纵横比成像近紫外（350-400n...
纳米压印-光刻机 参考价：650000
纳米压印-光刻机紧凑型滚筒纳米压印机我们的桌面R2P纳米打印机是原型设计，实验和产品开发的理想工具。台式R2P纳米压印机单元适用于小规模纳米压印光刻工作。该设备...
激光直写无掩膜光刻机 参考价：面议
激光直写无掩膜光刻机紫外光直写曝光 ，无需掩模，大幅节约了掩模加工费用，灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整，可升级开放性系统设计，按...
全自动光刻机 参考价：面议
全自动光刻机公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机，是韩国*家研发并商业化光罩对准曝光机的企业，始终...
纳米压印系统-光刻机 参考价：面议
纳米压印系统-光刻机介绍了一个台式、独立的纳米压印平台。该平台提供了一个带有微型定位夹具的机械平台，用于安装纳米压印室、紫外线固化
spin coater匀胶机 参考价：面议
spin coater匀胶机既在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转...
硅穿孔工艺设备-光刻机 参考价：面议
硅穿孔工艺设备-光刻机晶圆和晶圆之间制作垂直导通，实现芯片之间互连的新技术。能够使芯片在三维方向堆叠的密度大，芯片之间的互连线短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速...
狭缝挤压型涂布仪-匀胶机 参考价：面议
狭缝挤压型涂布仪-匀胶机狭缝挤压型涂布仪夹缝式挤压型涂布仪（Slot Die Coater）可以用于可复制重复性测试。归功于桌面小型化的设计。它也可以大幅降低材...
无掩膜曝光机-光刻机 参考价：面议
无掩膜曝光机-光刻机美国IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩...
匀胶机、旋涂仪（德国产、高性能） 参考价：面议
匀胶机、旋涂仪（德国产、高性能）SPIN150i单片匀胶机/旋涂仪具有广泛应用，包括甩干，冲洗，清洁，涂胶。台式设计，无缝全塑料材质， 有天然聚丙烯（NPP）和...
显影机-匀胶机 参考价：面议
显影机-匀胶机显影机 /湿法刻蚀机德国品质（配有防污染内衬，标配两个大小吸盘，性能优于美国同类品牌）高精度，高可靠性，耐腐蚀，来源德国，多程序控制。
光刻机/紫外曝光机 参考价：面议
光刻机/紫外曝光机该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以...
匀胶机，旋涂仪 参考价：面议
匀胶机，旋涂仪其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上, 厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。
匀胶机 参考价：面议
匀胶机其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上, 厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。
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