VTC-600GD高真空磁控溅射仪

产品型号

VTC-600GD

安装条件

本设备要求在温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）
2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地
3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀
4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
5、通风装置：需要

主要参数

1、电源电压：220V  50Hz
2、总功率：＜3.5KW
3、腔体内径：Ø300mm
4、极限真空度：< E-6mbar（配合本公司设备使用可达到E-5mbar）
5、工作温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）
6、靶枪数量：4个
7、靶枪冷却方式：水冷
8、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
9、直流溅射功率：500W（可选）
10、射频溅射功率：300W
11、载样台：Ø140mm
12、载样台转速：1rpm-20rpm内可调
13、保护气体：Ar、N2等惰性气体
14、进气气路：质量流量计控制2路进气，1个流量为100 SCCM，1个流量为200 SCCM

15、产品规格：
·尺寸：
主机尺寸：850mm×760mm×660mm，
整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm；
·重量：190kg

1

直流电源控制系统

（可选）套

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2

射频电源控制系统

1套

-

3

膜厚监测仪系统

1套

-

4

分子泵（德国进口或者国产更大抽速）

1台

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5

冷水机

1台

-

6

聚酯PU管（Ø6mm）

4m

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1

金、铟、银、铂等各种靶材

（可选）

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2

可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。

（可选）

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