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VTC-600G高真空磁控溅射仪

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  沈阳科晶立足国内市场实际情况,以提供Z为实用的产品为己任。产品的质量、精度在向国外企业看齐的基础上,产品的价格定位却仅仅是其几分之一。性价比不仅吸引了众多国内客户,而且令挑剔的外国客商也称赞不已,产品远销于印度、马来西亚、土耳其、波兰、突尼斯、澳大利亚等国家,并大量出口于美国。

  沈阳科晶为了更好地服务客户,专门设立了开放式专业实验室,配备了优秀的专业技术人员。在这里,不仅可以提供亲身的产品体验环境,而且还可得到专业人员的操作指导。开设以来,制作的样品达上千件,接待来访客参观户百余次,其中包括多次外国友人的来访。在此,沈阳科晶全体员工诚挚地欢迎您的到来,并希望您能提出宝贵的意见与建议。

  沈阳科晶一路走过的历程,是为我国材料研究事业全力贡献的历程,是以实际行动将自己打造成国内材料分析设备品牌的历程,是与国外同行不断缩小差距的历程,是与广大客户相扶相持的成长历程。虽一路充满坎坷与荆棘,但坚持不懈的沈阳科晶人仍全力以赴的前行。秉承这份坚持,相信在不久的将来,沈阳科晶也将会成为市场上专业的、杰出的材料分析设备品牌,沈阳科晶的明天会更加灿烂辉煌。

 

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产地类别 国产 价格区间 面议
应用领域 综合
产品简介VTC-600G高真空磁控溅射仪

VTC-600G高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控溅射仪可选配多个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

主要特点VTC-600G高真空磁控溅射仪
  • 可选配多个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。

  • 可制备多种薄膜,应用广泛。

  • 体积小,操作简便。

  • 整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。

  • 可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

技术参数VTC-600G高真空磁控溅射仪
产品名称VTC-600G高真空磁控溅射仪
产品型号VTC-600G
主要参数1、结构:台式前开门结构,后置抽气系统。 
2、极限真空:6.0X10-5Pa。 
3、漏率:1h≤0.5Pa。 
4、抽气时间大气至5.0X10-3约20分钟。 
5、真空泵组:机械泵+分子泵。 
6、样品台:φ140、室温-500℃、精度±1℃ (可根据实际需要提升温度) 自转5rpm-20rpm内可调。 可根据客户需求选配加装偏压功能, 以实现更高质量的镀膜。
7、加气系统:质量流量计2路。 (氩气/氮气各一路) 
8、靶头与样品台中轴线夹角为34° 
9、靶头数量:3个(互成120°)。
10、 靶枪冷却方式:水冷 
11、靶材尺寸:φ2″,厚度0.1-5mm (因靶材材质不同厚度有所不同)
产品规格

12、产品规格:
·整机尺寸:700mm×852mm×1529mm;

可选配件VTC-600G高真空磁控溅射仪
序号名称功能类别图片链接
1样品台挡板(可选)VTC-600G高真空磁控溅射仪




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