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化工仪器网>产品展厅>实验室常用设备>其它实验室常用设备>镀膜机> VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪

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VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪

具体成交价以合同协议为准

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  沈阳科晶立足国内市场实际情况,以提供Z为实用的产品为己任。产品的质量、精度在向国外企业看齐的基础上,产品的价格定位却仅仅是其几分之一。性价比不仅吸引了众多国内客户,而且令挑剔的外国客商也称赞不已,产品远销于印度、马来西亚、土耳其、波兰、突尼斯、澳大利亚等国家,并大量出口于美国。

  沈阳科晶为了更好地服务客户,专门设立了开放式专业实验室,配备了优秀的专业技术人员。在这里,不仅可以提供亲身的产品体验环境,而且还可得到专业人员的操作指导。开设以来,制作的样品达上千件,接待来访客参观户百余次,其中包括多次外国友人的来访。在此,沈阳科晶全体员工诚挚地欢迎您的到来,并希望您能提出宝贵的意见与建议。

  沈阳科晶一路走过的历程,是为我国材料研究事业全力贡献的历程,是以实际行动将自己打造成国内材料分析设备品牌的历程,是与国外同行不断缩小差距的历程,是与广大客户相扶相持的成长历程。虽一路充满坎坷与荆棘,但坚持不懈的沈阳科晶人仍全力以赴的前行。秉承这份坚持,相信在不久的将来,沈阳科晶也将会成为市场上专业的、杰出的材料分析设备品牌,沈阳科晶的明天会更加灿烂辉煌。

 

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欢迎来到沈阳科晶,我们是国内实验室样品制备设备领域的专家!

 

 

 

 

 

 

 

 

切割机,金刚石线切割机,研磨抛光机,提拉涂膜机,旋转涂膜机,真空镀膜机,管式炉,箱式炉,电池实验研究设备,清洗机

产地类别 国产 价格区间 面议
应用领域 钢铁/金属,综合

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪配备有三个靶枪和三个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
1、配置三个靶枪,两个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。

产品名称

VTC-600-3HD-1000双靶磁控溅射仪

产品型号
VTC-600-3HD-1000
主要参数

1、输入电源:220V/50Hz 
2、溅射靶数量:3
3、腔体内径:Ø300mm
4、靶枪冷却方式:水冷 
5、极限真空度:7.4E-5pa 
6、真空室规格:Φ300×330 mm 
7、真空系统:VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵 
8、恢复真空:系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min(系统短时间暴露大气) 
9、充气系统:2路质量流量计(1路氩气100scc、1路氩气200scc)特殊气体可定制 
10、溅射靶规格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同) 
11、样品台:Φ70mm//可加热(室温~1000℃) 

产品规格


主机尺寸:宽900mm×深650mm×高1100mm




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