蒸发镀膜仪是一种重要的薄膜制备设备

来源：沈阳科晶自动化设备有限公司 2024年11月28日 18:15

　　‌蒸发镀膜仪‌是一种用于在真空环境中通过物理气相沉积技术制备薄膜的设备。它主要用于在各种基材上沉积一层或多层薄膜，广泛应用于电子、光学、材料科学等领域。

　　蒸发镀膜仪是一种用于在基底上制备均匀材料薄膜的设备，通过物理方法产生薄膜材料。其工作原理主要是利用加热源(如电子束或电阻加热)将材料加热至高温，使其蒸发并沉积在基底表面上，形成所需的薄膜。

　　工作原理

　　蒸发镀膜仪的工作原理基于物理气相沉积(PVD)技术。具体过程包括以下几个步骤：

　　‌真空环境‌：使用真空泵将蒸发室内的气体抽出，创造一个高真空环境，以避免材料在蒸发过程中与气体反应。

　　‌蒸发源‌：将待镀材料放置在蒸发源(如钨舟或电子束加热器)上，通过电阻加热、电子束加热等方式使材料蒸发。

　　‌沉积‌：蒸发的材料在基片上沉积，形成所需的薄膜。

　　特点：

　　电子束加热比电阻加热具有更高的通量密度，可以蒸发高熔点材料，如W、Mo、Al2O3等，并可得到较高的蒸发速率。

　　被蒸发材料置于水冷铜坩埚内，真空蒸发镀膜机可避免坩埚材料污染，可制备高纯薄膜。

　　电子束蒸发粒子动能大，有利于获得致密、结合力好的膜层。

　　综上所述，蒸发镀膜仪是一种重要的薄膜制备设备，在多个领域都有广泛的应用。在选购和维护时，需要充分考虑实际需求和预算。

凡本网注明“来源：化工仪器网”的所有作品，均为浙江兴旺宝明通网络有限公司-化工仪器网合法拥有版权或有权使用的作品，未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的，应在授权范围内使用，并注明“来源：化工仪器网”。违反上述声明者，本网将追究其相关法律责任。
本网转载并注明自其他来源（非化工仪器网）的作品，目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责，不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时，必须保留本网注明的作品第一来源，并自负版权等法律责任。
如涉及作品内容、版权等问题，请在作品发表之日起一周内与本网联系，否则视为放弃相关权利。

联系我们