GVC-2000 磁控膜厚一体溅射仪

GVC-2000磁控膜厚一体溅射仪内部集成膜厚检测控制模块，可精确测量、实时显示当前镀膜厚度；精准测量并复现当前试验结果。

1、采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射，以确保工作过程样品不会发生热损伤；

2、采用单片机作为处理器，全自主知识产权，扩展性好，可选配膜厚监控组件；

3、5英寸触摸式液晶显示屏，分辨率为800×480，全数字显示；

3.1可设定：

（1）溅射电流；

（2）溅射时间；

（3）靶材种类；

（4）工作真空度；

（5）工作气体；

（6）屏幕亮度等参数。

3.2可显示：

（1）溅射电流；

（2）溅射剩余时间；

（3）工作真空度；

（4）靶材累计使用时间；

（5）设备累计使用时间等参数。

4、溅射电流：5-45mA连续可调，最小步长为1mA；

5、溅射时长：1-999s连续可调，最小步长为1s；

6、溅射真空：4-20Pa连续可调，最小步长为0.1Pa；

7、溅射靶材：标配为高纯金靶（纯度4N9），规格为φ57×0.12mm；

8、真空室：采用高透光性的高硅硼玻璃，尺寸约为φ125×125mm；

9、样品杯：可容纳最大样品杯尺寸为φ90mm；

10、系统提供金、铂对于空气和氩气的工作参数，可直接使用。同时提供3种自定义靶材，用户可根据自己需求设定工作参数；

11、设定工作真空度后，系统可自动调整至设定值，无需调节针阀；

12、设定溅射电流后，系统可自动调整至设定值，无需其它操作；

13、具备溅射电流和真空度双重互锁，安全可靠，任一条件触发，系统即可停止工作，防止因为误操作导致设备损坏；

14、极限真空优于1Pa，真空泵抽速为1L/s；

15、具备实时曲线显示溅射电流和真空度功能非常方便用户了解系统工作状态；

16、采用*的靶材更换结构，无需任何工具，即可实现快速更换靶材；

17、操作软件：内置操作向导，便于操作人员快速熟悉设备，在人员更替时无需厂家培训即可熟练操作仪器。

GVC-2000磁控膜厚一体溅射仪技术参数：

1、溅射靶头采用平面磁控靶设计；

2、系统采用单片机等微处理器控制，全数字显示；

3、彩色液晶屏显示，屏幕不小于5英寸；

4、最大溅射电流不小于45mA，最小溅射电流不大于5mA，步进量为1mA；

5、溅射真空度可任意设定，且最小调节量0.1Pa；

6、可存储不少于5种靶材的工作参数；

7、最长溅射时间不小于600秒；

8、具备电流保护和真空保护功能，在电流过大、真空度较差时保证设备安全；

9、极限真空优于1Pa；

10、可实时显示靶材使用时间和设备工作时间；

11、可用实时曲线显示溅射电流和真空度。