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辉光放电仪 参考价：面议
名称：辉光放电仪型号：GVC-100用途：亲水性处理应用领域：透射电镜 生物样品制备
磁控离子溅射仪 参考价：面议
GVC-2000P磁控离子溅射仪一键操作，具备工作完成提示音；镀膜颗粒小，无热损伤；靶材更换非常简单。
高真空磁控离子溅射仪 参考价：面议
GVC-2000TD高真空磁控离子溅射仪可制备各种金属、单质、无机非金属薄膜；不破真空情况下，可实现多层复合膜制备。
GVC-2000磁控离子溅射仪 参考价：面议
GVC-2000磁控离子溅射仪颗粒更小，更适宜于高倍图像观测，适配场发射/高分辨场发射电镜。
GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪 参考价：面议
GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪是一款容易操控的磁控离子溅射仪，为自动化技术镀膜机给予市面上最好使用价值的商品。它被用于非导电性样品的预备处理商品，以提升...
小型分子泵机组 参考价：面议
小型分子泵机组全无油真空系统；一键式启停操作；快速连接方式；可便捷移动真空获得设备。
射频磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
GVC-1000射频磁控溅射镀膜仪主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，仪器操作简单方便，是样品制备所必要的仪器。适用的靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等！
GVC-5000多功能镀膜仪 参考价：面议
GVC-5000多功能镀膜仪配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。
GVC-3000热蒸发镀碳仪 参考价：面议
GVC-3000热蒸发镀碳仪拥有优秀的溅射系统，可以更换弹射进行蒸镀，实现高要求的细粒涂层。更加适合SEM领域的EDS和WDS应用。
GVC-3000T高真空热蒸发镀碳仪 参考价：面议
GVC-3000T高真空热蒸发镀碳仪效率更高、颗粒更细，膜厚更均匀。7英寸TFT彩色液晶触摸屏。
GVC-5000T高真空多功能镀膜仪 参考价：面议
GVC-5000T高真空多功能镀膜仪双组件设计；防污挡板设计；一键切换工作模式；镀膜效率高、颗粒度小。
GVC-2000磁控膜厚一体溅射仪 参考价：面议
GVC-2000磁控膜厚一体溅射仪内部集成膜厚检测控制模块，可精确测量、实时显示当前镀膜厚度。
手套箱专用磁控溅射仪 参考价：面议
GVC-2000手套箱专用磁控溅射仪采用触摸控制，外置泵组设计，采用平面磁控溅射靶设计，从而使试样在热效应最小的条件下得到有效的溅射效果，常用于锂电池电极防氧化...
电极制备镀膜仪 参考价：面议
电极制备镀膜仪双组件设计配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可...
全自动离子溅射仪 参考价：面议
GVC-1000全自动离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择，以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。在结构设计及人机界面方面更加注重人性，简...
磁控离子溅射仪 参考价：面议
GVC-2000磁控离子溅射仪基本无温升、样品表面无热损失；颗粒更小，更适宜于高倍图像观测，适配场发射/高分辨场发射3.低压大电流溅射，效率更高。
磁控膜厚一体溅射仪 参考价：面议
GVC-2000磁控膜厚一体溅射仪内部集成膜厚检测控制模块，可精确测量、实时显示当前镀膜厚度；精准测量并复现当前试验结果。
手套箱镀电极专用磁控溅射仪 参考价：面议
GVC-2000手套箱镀电极专用磁控溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择,以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。可用于纯氩、纯氮环境，使样品免...
热蒸发镀碳仪 参考价：面议
热蒸发镀碳仪7英寸TFT触摸屏，全数字显示；全自动控制，一键式操作；4根碳绳交替工作，自动检测通断；连续蒸发、脉冲蒸发两种工作模式。
高真空磁控离子溅射仪 参考价：面议
GVC-2000T 高真空磁控离子溅射仪没有热损伤，效率更高，颗粒度更细，更适合高分辨电镜。适用于高分辨扫描电镜样品制备，电极制备-可制备各种金属电极、ITO电...
高真空多功能镀膜仪 参考价：面议
高真空多功能镀膜仪双组件设计；防污挡板设计；一键切换工作模式；镀膜效率高、颗粒度小；可镀所有金属膜和ITO导电膜；工作过程全自动；软硬件互锁，安全可靠。
高真空热蒸发镀碳仪 参考价：面议
GVC-3000T高真空热蒸发镀碳仪应用领域：1.EDS样品制备2. EBSD样品制备3.MLA系统样品制备4.其它需要制备碳膜的领域。
多功能镀膜仪 参考价：面议
多功能镀膜仪是双组件设计配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可...
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