高真空磁控离子溅射仪-北京格微仪器有限公司

参考价	面议

产地类别	国产	价格区间	面议
应用领域	电子,冶金,综合

GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪是一款容易操控的磁控离子溅射仪，为自动化技术镀膜机给予市面上最好使用价值的商品。它被用于非导电性样品的预备处理商品，以提升三维成像屏幕分辨率，样品导电率，电子电荷降低并减少对比较敏感样品的光线损害。

高真空磁控离子溅射仪

GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪是一款容易操控的磁控离子溅射仪，为自动化技术镀膜机给予市面上最好使用价值的商品。它被用于非导电性样品的预备处理商品，以提升三维成像屏幕分辨率，样品导电率，电子电荷降低并减少对比较敏感样品的光线损害。

一、描述

1、全自动知识产品；

2、没有热损伤，效率更高，颗粒度更细，更适合高分辨电镜。

二、基本原理

将导电性原材料（如Pt-Pd，Pt，Au和Pd）涂敷到样品表面上的设备。除此之外，非导电性样品用以在透射电镜下开展数据可视化，及其维护样品表面免遭引入离子束的危害并帮助电子器件流动性。他们乃至可以作为塑料薄膜型电级的产生。

三、应用领域

1、高分辨扫描电镜样品制备（实际放大倍数≥100K）；

2、电极制备-可制备各种金属电极、ITO电极。

四、设备配置与技术参数

型号&名称	GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪
真空系统	涡轮分子泵（进口）：德国莱宝90i （单磁悬浮分子泵，抽速为90L/s）旋片式真空泵：浙江飞越VRD-4 （抽速为 1 .1L/s）
真空测量	全量程复合真空规（进口）：1.0E5Pa-1E-4Pa
系统极限真空	≤5E-3Pa
溅射电源	磁控溅射电源,功率150W
可用靶材	所有金属靶材，ITO靶材
溅射电压	300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化
溅射电流	0-200mA连续可调,步长5mA
溅射时间	0-9999s, 连续可调步长1s
操作界面	7英寸TFT彩色液晶触摸屏,分辨率800×480
操作方式	一键操作
抽气节拍	＜15分钟
控制方式	只需设定溅射电流和时间即可，全自动控制具备预溅射挡板（预溅射时间可设定),全自动控制
保护功能	软硬件互锁、防止误操作，具备电流、真空保护等
样品台直径	φ125mm，可自转，可自动手动控制，转速4-40rpm可调
真空室	高硅硼玻璃，规格尺寸约φ200×130mm
电源供电	220V 50Hz 功率800W
尺寸&重量	重量 424（长) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （净重)
冷却方式	内部风冷
选配	样品台选择、膜厚控制、温度监测等