C-1000磁控溅射系统：带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到6“旋转平台，Z大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10...

C-3000（M）磁控溅射系统：带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到6“旋转平台，Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可...

C-3000（A）全自动磁控溅射系统：台式自动系统，带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到6“旋转平台，Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡...

C-4000Sputter磁控溅射镀膜机：*进的全自动溅射系统带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能的8“旋转样平台,Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统...

C-3500（M）磁控溅射系统：带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到8“旋转平台，Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可...

C-3500（A）全自动磁控溅射系统：立式自动系统，带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到6“旋转平台，Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡...

C-4000（A）全自动磁控溅射系统：立式自动系统，带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到6“旋转平台，Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡...

C-4000C-4000（M）磁控溅射系统：带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到8“旋转平台，Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵...

NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统：NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置，样品台位于主腔体，二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁...

NEE-4000（M）电子束蒸发系统：NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，样品台位于主腔体，二级腔体则用于安置电子束源。两个腔体之间的门阀可以作为预真...

NTE-3500Thermal Evaporator热蒸发系统：提供NTE-4000和NTE-3000型号的PC计算机控制的热蒸发系统，可沉积有机物和金属。设备...

NEE-4000E-Beam电子束蒸发系统： NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，其中样品台位于主腔体内，二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间带有门...

NTE-3500（M）热蒸发系统：NTE-3500是PC控制的紧凑型立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及...

NTE-3500（A）全自动热蒸发系统：全自动立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。具有...

NTE-4000（M）热蒸发系统：NTE-4000是PC控制的立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复...

NTE-3000热蒸发系统：NTE-3000是PC控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺...

NTE-4000（A）NTE-4000（A）全自动热蒸发系统：全自动立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及...

NOC-4000离子束刻蚀溅射镀膜一体机：NANO-MASTER 离子束清洗抛光-磁控溅射镀膜系统提供*进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后...

光学元件原子级抛光镀膜设备：NANO-MASTER 离子束清洗抛光-磁控溅射镀膜系统提供*进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第...

NRE-4000（ICPA）全自动ICP刻蚀系统：自动上下载片，带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实...