Model 308 便携式光功率计 ●精确性 ●可靠性 ●可重复性 ●数显直读 ●便捷性

45年来，OAI始终是紫外能量测试仪器领域的*应用商，其仪器用于半导体、微机电系统、晶圆封装和晶圆植球行业中光刻工艺的可靠，精确校准控制。Model 659是一...

在硅片等基板上附膜时，由于基板和薄膜的物理定数有异，产生应力，进而引起基板变形。由涂抹均匀的薄膜引起的变形的表现为基板的翘曲，而薄膜应力测量装置FLX系列可从这...

等离子清洗机,等离子清洗机真空泵采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子表面处理机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子...

NLD-3000原子层沉积系统：ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性...

AT-400原子层沉积系统高纵横比沉积，具有良好的共形性;曝光控制，用于在 3D 结构上实现所需的共形性；预置有经验证过的 3D 和 2D 沉积的优化配方；简单...

PECVD沉积可选配一个三极管（Triode）或电感耦合等离子(ICP)源。三极管源使得用户可以创建高密度等离子，从而控制薄膜应力。

光学接触角测量仪可根据客户的需求，针对不同的工作测试环境，提供相应的解决方案，如有技术请咨询德国韦氏纳米系统

薄膜反射仪是一款相对较低成本和操作简单的工具。基于阵列的探测器系统保证快速测量，可升级到MSP（显微分光光度计）系统，SRM映射系统，多通道系统，大点的...

Harrick Plasma 等离子清洗机真空泵具有悠久历史的专业光学光谱仪器的设计和制造。自1969开始，Harrick Plasma ，行业享有盛名。该公司...

高功率等离子清洗机除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能。等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。对...

基本型等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子表面处理机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清...

等离子刻蚀ICP基片通过预真空室装入。其避免与工艺室以及任意残余刻蚀副产品接触，从而提高了用户安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下，从而隔绝外部湿气，防...

刻蚀显影清洗系统是一套脱机系统，在一个封闭的清洗室内清洗网纹辊，并由计算机控制。该系统包含一个回收装置，去除废料，清洗介质的表面，并允许塑料介质可以重复多次使用...

气体流量混合器可用于任何与等离子清洗机模型结合，有利于气体混合，气体的流量和真空压力监测更精确的定量控制。

Harrick高功率扩展型等离子清洗机是一款多功能的工具，适用于刻蚀有机薄膜（10--100nm）以及表面活化改性。

ActiGraph人体运动能耗监测仪ActiGraph设备已经被超过60个国家的几百所大学和研究机构所采用，主要的实验室包括U.S. National Itit...

ActiGraph人体运动能耗监测仪ActiGraph设备已经被超过60个国家的几百所大学和研究机构所采用，主要的实验室包括U.S. National Itit...

AS-One系统有两种型号： AS-One 100 系统或AS-One 150 系统该快速退火炉是专门为满足大学、研究实验室和小规模生产的需求而研制的，高可靠且...

OAI 超过35年的历史按照您的具体规格设计和制造紫外线仪器和曝光系统在世界范围内亨有声誉无论复杂还是简单，OAI都有较聪明的解决方案。