光学元件原子级抛光镀膜设备 返回列表页

光学元件原子级清洗镀膜系统

光学元件原子级抛光镀膜设备概述：NANO-MASTER 离子束清洗抛光-磁控溅射镀膜系统提供*进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用，同时具备各自的自动上/下载片功能。

光学元件原子级抛光镀膜设备应用

Optical Coatings 光学涂层
Sputtering  溅射
IBAD  IBAD离子束辅助沉积
Ion Beam Etching Cleaning  离子束刻蚀清洗
Ion Beam Assisted Reactive Etching 离子束辅助反应刻蚀
Infrared Coatings  红外涂层
Surface Treatment   表面处理
产品特点:

RF Biasable Platen  RF射频偏压样品台
Thickness Monitor   膜厚监测仪
5x10-7 Torr Base Pressure  极限真空5x10-7Torr
High Accuracy and Repeatability  高精度及高重复性
High Quality Films  高品质膜层
Atomic Level Clean Surfaces   原子级的洁净表面
Atomic Cleaning and Polishing  原子级清洗和抛光
PC Controlled with LabVIEW  通过LabView软件实现PC计算机全自动控制
Automatic Load/Unload  自动上下载片
Automatic Transfer Between Chambers  两个腔体之间自动传送
Recipe Driven, Password Protected 菜单驱动，4级密码访问保护
Safety Interlocks 完整的安全联锁
46”D x 44”W Footprint  占地面积46”D x 44”W
选配项:

Sputter Down/Up  向下/向上溅射
Co-Sputtering 共溅射
DC, RF and Pulsed Power Supplies  DC，RF以及脉冲电源
Ion Beam Assisted Deposition 离子束辅助沉积
E-Beam Sources 电子束源
Plasma Sources 等离子源