当前位置:德国韦氏纳米系统(香港)有限公司>>Deposition沉积系统>>Sputter磁控溅射系统>> NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统
磁控溅射技术
NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(zui高可加热到700度)功能,zui大到6"旋转平台,zui大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-4000(A)带有14"立方形不锈钢腔体,4个2"的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,350 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统产品特点:
选配项:
应用:
请输入账号
请输入密码
请输验证码
以上信息由企业自行提供,信息内容的真实性、准确性和合法性由相关企业负责,化工仪器网对此不承担任何保证责任。
温馨提示:为规避购买风险,建议您在购买产品前务必确认供应商资质及产品质量。