NEE-4000（M）电子束蒸发系统 返回列表页

电子束蒸发技术

NEE-4000（M）电子束蒸发系统概述：NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，其中样品台位于主腔体内，二级腔体则用于安置电子束源。这种在两个腔体之间带有门阀的配置可以作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，实现基片通过主腔体放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。在需要自动装/卸载基片时，他可以通过第三方的预真空锁来实现，这可以设置于立方体的左侧。通过PC计算机控制，系统可以提供多电子束源的共蒸发能力，以及对组分或组分梯度进行编程的能力。

NEE-4000（M）电子束蒸发系统特点：

• 顺序蒸发或共蒸发
• 双电子束源
• 多凹槽电子枪
• 可编程电子束扫描
• 10KW开关电源
• 涡轮分子泵，极限真空5x10-7Torr
• 手动上下载片，带预真空锁
• 材料和衬垫更换非常方便
• 晶振式膜厚监测仪
• 通过LabView软件实现PC计算机控制
• 菜单驱动，四级访问密码保护
• *的安全联锁

Features：

• Sequential or Co-Evaporation 
• Dual E-Beam Source 
• Multi-Pocket E-Gun 
• Programmable Beam Scan
• 10 KW Switching Power Supply  
• Turbomolecular Pump, 10^-7Torr  
• Manual Load/Unload w/Load Lock  
• Easy Material and Liner Change
• Crystal Thickness Monitor 
• PC Controlled with LabVIEW 
• Recipe Driven, Password Protected  
• Fully Safety Interlocked