随时掌握行业动态
网络课堂 行业直播
手机访问更快捷
更多流量 更易传播
产品
安晟美华 贝意克 HAOYUE/皓越 LNEYA/无锡冠亚 PLUTOVAC 任氏巨源 三元 厦门地坤 其他品牌
在线询价
等离子增强化学气相沉积炉(PECVD系统)PX 7162
便携式样品传送腔体PX 3947
CVD化学气相沉积装置PX 3334
ACU20FDH-LH沉积设备用高温分体气体流量控制器及流量计PX 3377
PLUTO-MC真空等离子体涂覆薄膜沉积设备PX 5606
CYRANNUS微波等离子化学气相沉积系统PX 3650
AT-600原子层沉积系统PX 3540
MS450钙钛矿镀膜设备PX 4917
CVD化学气相沉积设备PX 3501
化学气相沉积炉(CVD系统)PX 8550
高真空互联物理气相薄膜沉积系统PX 2106
Compact ALD台式原子层沉积系统PX 2938
PECVD-500A-D智能型PECVD系统(含压力控制系统)PX 2731
FL-800N物理气相沉积设备(PVD)冷水机-冷却系统PX 7014
scrubber全类型尾气处理设备-scrubberPX 2376
GM10/100/1000正极材料包覆PX 2205
P 系列粉末原子层沉积系统PX 4169
微波等离子化学气相沉积系统PX 2380
GS-30-700广树CVD化学气相沉积碳镀膜机PX 3706
PICOSUN ALDPICOSUN 原子层沉积系统PX 2766
FPPIC-R-200-standard科研型原子层沉积系统,picosun公司ALD系统PX 3622
国产PLD脉冲激光分子束外延装置PX 1662
SAL1000G原子层沉积系统PX 2933
ZT-60-15立式化学气相沉积炉PX 3953
ALD R-200原子层沉积系统PX 3149
等离子体化学气相沉积设备PX 2152
VE-2012日本shinkuu真空简单的真空气相沉积系统PX 4557
转移多壁碳纳米管垂直阵列(化学气相沉积法)PX 3709
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统PX 2374
TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统PX 3395
TF-1200-PECVD等离子增强化学气相沉积系统PX 2628
全金属密封磁控溅射靶枪PX 3947
定制样品传送腔体PX 3947
4/6英寸辐射式样品台系统PX 3947
超高真空磁控溅射外延系统PX 3947
脉冲激光沉积样品台PX 3947
脉冲激光沉积靶台PX 3947
脉冲激光沉积系统激光光路PX 3947
单腔体脉冲激光沉积系统PX 3947
双腔体脉冲激光沉积系统PX 3947
薄膜生长设备
工艺测量和检测设备
集成电路测试与分选设备
光刻及涂胶显影设备
热工艺设备/热处理设备
硅片制备/晶体生长设备
掩模版和中间掩模版制造设备
离子注入设备
干法工艺设备
湿法工艺设备
组装与封装设备
其它半导体行业仪器设备
便携式样品传送腔体
全金属密封磁控溅射靶枪
定制样品传送腔体
4/6英寸辐射式样品台系统
超高真空磁控溅射外延系统
脉冲激光沉积样品台
脉冲激光沉积靶台
脉冲激光沉积系统激光光路
真空等离子体涂覆薄膜沉积设备
智能型PECVD系统(含压力控制系统)
上海衡平仪器仪表有限公司
赛默飞色谱及质谱
上海平轩科学仪器有限公司
微信公众号
采购中心
请选择参数!