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目录:深圳市锡成科学仪器有限公司>>轮廓/膜厚测量>>椭偏仪>> Nanofilm_EP4椭偏仪

椭偏仪
  • 椭偏仪
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
  • 品牌 其他品牌
  • 型号 Nanofilm_EP4
  • 厂商性质 代理商
  • 所在地 深圳市
属性

产地类别:进口 应用领域:综合

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更新时间:2025-04-18 07:42:22浏览次数:498评价

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产地类别 进口 应用领域 综合
椭偏仪:超薄膜的实时可视化分析测试,实时观察样品微观尺度上的结构。可以测量诸如薄膜厚度、折射率和吸收系数等参数。也可以对薄膜进行区域化(选区)分析,获得所选区域的成像分析图。

椭偏仪

超薄膜的实时可视化分析测试,实时观察样品微观尺度上的结构。可以测量诸如薄膜厚度、折射率和吸收系数等参数。也可以对薄膜进行区域化(选区)分析,获得所选区域的成像分析图。

椭偏仪产品特点

ª 自动消光型椭偏分析技术和传统的显微镜技术结合,可视化实时图像椭偏分析,横向(X/Y方向)分辨率优于1μm

ª 实时椭偏对比度图像,实时视频图像分析。样品的所有微结构、缺陷、污染和动态变化过程都将一览无余。

ª 全画幅聚焦技术解决了斜角入射导致的全画幅聚焦问题,适用于动态原位分析测试,如自组装单分子层的生长和移动、蛋白质相互作用和水面单分子层的漂移等。

ª 光斑切割技术,真正实现超薄透明基底上薄膜的无背底反射椭偏测试。

基础参数


样品对准

探测Z方向的位置和倾斜,倾转轴探测精度:0.001°,Z向精度:1μm

仪器对准

光学系统角度倾转调整,独立于样品位置,倾转轴探测精度:0.001°

Z轴升降系统

行程范围:>100mm,可重复性:lμm

光源

低氙弧灯激光光源,噪声低至0.1%,长寿命10000小时;

可选单波长激光光源或200-2000nm连续波长光源;

提供250-1700nm光栅单色器,中段波长精度<1nm,带宽5/6/12nm;

可选光斑切割照明模块,实现透明基底薄膜的无背底反射干扰测量;

光学成像系统

聚焦扫描系统,在变角度测量时(<80°)实现实时图像,兼容所有物镜,横向分辨率<1μm;

全画幅聚焦图像/实时视频,横向分辨率2μm,工作入射角:52°~57°;

探测器

单色千兆网(GigE)CCD相机,波长:360nm-1000nm,1392×1040 px,12位,40帧/秒;

可选近红外(NIR)探测相机和紫外线(UV)探测相机;

可选多相机匹配及切换系统;

物镜

2×-50×物镜;

UV/IR物镜;

自动转角仪

入射角范围:38°-90°,分辨率:0.001°,角精度:0.01°,转动速度:-5°/秒

Z轴自动升降系统

行程:12cm,可重复性:1μm,分辨率0.5μm

拓展附件

表面等离子共振(SPR)单元,固/液界面分析单元,光导液/液界面分析单元,微流控分析单元,温度控制单元,电化学分析单元等

联用技术

AFM、石英晶体微天平、反射光谱仪、拉曼光谱仪、白光干涉仪等





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