1600℃ 18.7L 高温箱式炉（MF-1600C-III） 参考价：面议
主要特点保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能炉体采用双层风冷结构，炉子烧到最高温度时，壳体表面温度低于60℃采用多种保温材料组合制成，使炉子体...
1600℃ 12L 高温箱式炉（MF-1600C-II） 参考价：面议
主要特点保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能;炉体采用双层风冷结构，炉子烧到最高温度时，壳体表面温度低于60℃采用多种保温材料组合制成，使炉...
1600℃ 3.4L 高温箱式炉（MF-1600C-I） 参考价：面议
主要特点保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能;炉体采用双层风冷结构，炉子烧到最高温度时，壳体表面温度低于60℃采用多种保温材料组合制成，使炉子...
1600℃ 1.5L 高温箱式炉 MF-1600C-S 参考价：面议
主要特点保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能炉体采用双层风冷结构，炉子烧到最高温度时，壳体表面温度低于60℃采用多种保温材料组合制成，使炉子体...
等离子体增强回转PECVD系统 参考价：面议
等离子体增强回转PECVD系统 主要特点我司研制的回转PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态...
小型热压炉 BTF-1200C-SVP 参考价：面议
主要特点开启式立式加热体，炉管法兰可绕轴旋转移出炉腔标配Φ60mm石英管真空密封，20T电动压力机采用石墨顶杆和石墨模具，在加压的同时使粉末加热到正常烧...
1700℃ 36L 高温箱式炉（MF-1700C-IV） 参考价：面议
主要特点保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能炉体采用双层风冷结构，炉子烧到最高温度时，壳体表面温度低于60℃采用多种保温材料组合制成，使炉子体...
1800℃ 12L 高温箱式炉 参考价：面议
主要特点保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能炉体采用双层风冷结构，炉子烧到最高温度时，壳体表面温度低于60℃采用多种保温材料组合制成，使炉子体...
1800℃ 3.4L 高温箱式炉 参考价：面议
主要特点保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能炉体采用双层风冷结构，炉子烧到最高温度时，壳体表面温度低于60℃采用多种保温材料组合制成，使炉子体...
真空箱式炉 参考价：面议
主要特点保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能炉体采用双层风冷结构，炉子烧到最高温度时，壳体表面温度低于60℃炉体采用超轻质高铝纤维材料，具有热...
真空热压炉 参考价：面议
开启式立式加热体，炉管法兰可绕轴旋转移出炉腔标配Φ100mm石英管真空密封，40T电动压力机采用石墨顶杆和石墨模具，在加压的同时使粉末加热到正常烧结温度...
高温石墨炉 GRF-2000C 参考价：面议
主要特点本设备为周期作业式广泛应用于功能陶瓷、光学材料、碳复合材料，硬质合金，粉末冶金等在高温下进行烧结处理，也可在充气保护情况下成型烧结
滑轨式PECVD 参考价：面议
小型滑轨式PECVD系统本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能...
真空气氛箱式炉 参考价：面议
设备特点： 贝意克自主研发生产的ZMF-1400C真空箱式炉系列用于在1350℃以下金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用优质U型...
1700系列自动化进料隧道窑MF-1700C-L 参考价：面议
本公司研发生产的MF-1700C-L箱式炉系列用于在1600℃下热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用优质U型硅钼棒加热，PID程序控温仪控...
实验室高温箱式炉 参考价：面议
实验室高温箱式炉采用优质U型硅棒加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。
高温坩埚炉 参考价：面议
高温坩埚炉设备特点：炉管为单端封口刚玉管，外径￠100m。炉管竖起来放置于炉膛内，上部端口配有水冷折页法兰，并配有压力真空表，配有一个进气口和出气口以及一个KF...
不锈钢真空手套箱 参考价：面议
不锈钢真空手套箱产品描述：VGB系列手套箱由3mm厚度的304优质钢板或镜面不锈钢氩弧焊制而成，双层钢化玻璃及加强筋制成，可在高真空或一定正压环境下使用，内置2...
真空气氛管式炉 参考价：16
正压真空气氛管式炉出气端法兰设计有可调泄压阀，当压力超过设定压力后会自动排出多余气体，有效保证腔体的压力稳定。
CVD系统 参考价：面议
CVD系统是借助于辉光放电等方法产生等离子体，辉光放电等离子体中：电子密度高109-1012cm3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍，使含有薄膜组...
二维材料制备 参考价：面议
二维材料制备CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助二维材料蒸发，后端为双温区管式炉，温度控制精确，操作简便。并配质量流量计系统和真空系统，可以准确的...
流化床—粉体碳纳米管生长设备 参考价：面议
流化床—粉体碳纳米管生长设备流化床—化学气相沉积法可控及批量制备碳纳米管设备，该设备包括有：自动加液装置、超声波雾化发生装置、气体供应装置、气体流量控制装置、三...
碳纳米纤维膜系统 参考价：面议
碳纳米纤维膜系统1.集高温场、设计的薄膜采集系统及液态碳源调控系统于一体2.采取液态碳源的方式3.高温区进行裂解4.most终沉积后端收集系统的成膜区，形成碳纳...
碳纳米线生长设备 参考价：面议
碳纳米线生长设备公司研制的连续碳纳米管、纳米线生长专用设备。由气流控制系统、液体注入系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统，红外烘干系...
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