摇摆炉 参考价：面议
摇摆炉BTF-1200C-SK1.，30段可编程精密温度控制器2.可根据不同的客户需求来设定升降温程序3.可设定取放料工位4.设定摇摆起始工位（如横向作为起始工...
火焰吹制真空回转设备 MVP-R 参考价：面议
火焰吹制真空回转设备 MVP-R1.自动调节火焰枪头三维位置2.低压条件下实现吹塑成型实验3.玻璃圆片可在环形压环实现边界固定4.内置磁流体旋转5.真空条件下实...
非气态源化学气相沉积系统 参考价：面议
非气态源化学气相沉积系统1.前驱体灌温度可达400℃；2.温度独立可调；3.固态或液态前驱体在一定温度下蒸发后通过惰性气体带入反应区域参与的一些CVD反应。
等离子辉光滑轨PECVD系统 参考价：面议
等离子辉光滑轨PECVD系统1.炉内温度场的均匀分布2.可自行根据不同温度曲线3.电气元件采用优质的进口产品高性能、免维护
真空气氛滑轨炉 参考价：14
设备特点真空气氛滑轨是一款精巧型真空气氛滑轨炉，配有石英管和真空水冷法兰，它是专为半导体或太阳能电池基片的退火而设计，采用电阻丝为加热元件。温度控制位30 段可...
组合式多通道管式炉 参考价：面议
组合式多通道管式炉 1.9组管式炉组合而成2.相互独立控制，可同时进行平行实验3.液晶屏集中管理，操作简便,无纸记录4.功能强大体积小
大口径等离子清洗机 参考价：11
大口径等离子清洗机 ：1.性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护2.**地清除样品表面的有机污染物3.定时处理、快速处理、清洗效率高4.绿色环保、...
前端预热双温区滑轨PECVD 参考价：面议
前端预热双温区滑轨PECVD：1.工艺流程简单。2.生长温度更低。3.实现快速升温和降温。4.辉光均匀等效，均匀生长。
微型PECVD系统管式炉 参考价：17
微型PECVD系统，它包括小型真空管式炉，石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射频电源系统、物料喷射系统。电源范围宽：0-100W可调； 温度范围宽：...
智能型双温区等离子化学气相沉积系统 参考价：面议
智能型双温区等离子化学气相沉积系统1.高性能、免维护2.工艺流程简单3.温度控制精确，操作简便
迷你搅拌炉 MF-1200C-RD 参考价：面议
迷你搅拌炉 MF-1200C-RD环保节能;炉子体积小，能量消耗少;炉膛内配有坩埚搅拌桨，便于放取料;拌速度0-200min可调，调速器显示转速，使用简便。
定制真空中频感应熔炼设备 BMF-1800C-D 参考价：面议
结构简介：此设备主要由真空腔室、供气系统、低真空系统、和中频感应器、中频电气控制系统、静电甩丝装置、收集器、观察窗和钨铼热电偶测温装置等部分组成。
自动进料回转CVD系统 参考价：面议
产品简介：1.该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀；2.可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间。3...
单工位快速退火炉 参考价：面议
该款设备是由单端封口小型红外滑轨炉、 电机调速装置、高真空机组、进出气口及操作控制界面组成，内控热电偶用于控制RTP滑轨炉内的温度，伺服电机用于控制丝杆的转动速...
液相蒸发仪 参考价：面议
设备特点液相蒸发仪是一款气液混合加热设备，集控制系统与气液混合系统为一体。采用耐腐蚀不锈钢制作储液罐，并在罐顶部加有透明视窗，可以实时观测罐内液位；采用加热套环...
小单温区管式炉 参考价：11
小单温区管式炉主要特点：设备极小、能耗低、所占空间小，适合提供小样烧结或配套分析仪器使用，也同样适合于同位称量设备。
流化床CVD系统 参考价：面议
流化床CVD系统—化学气相沉积法可控及批量制备碳纳米管设备，该设备包括有：自动加液装置、超声波雾化发生装置、气体供应装置、气体流量控制装置、三温区流化床反应器及...
滑动取样小型高温管式炉 参考价：10
此款滑轨式高温管式炉广泛用于:真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境. 该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理，尺寸小巧，节能。周到的界面操...
OLED真空搅拌匀料系统 参考价：14
OLED真空搅拌匀料系统：此系列升华仪专为生产型企业打造，本款*流场设计，经过工艺不断摸索改进。此款设备以它高稳定性和高温度均匀性广受生产型企业青睐。
连续进出料等离子体增强回转设备 参考价：面议
连续进出料等离子体增强回转设备，该款设备是全自动Plasma增强CVD系统（PECVD），炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方...
量产级有机小分子提纯设备升华仪 参考价：面议
本款有机小分子提纯（升华仪）主要针对生产用途是在高真空条件下对有机混合物进行升华达到纯化的目的（即蒸发后重结晶），可以实现量产10-20kg,本款*流场设计，经...
二维材料设备CVD系统 参考价：55500
二维材料设备CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助二维材料蒸发，后端为双温区管式炉，温度控制精确，操作简便。并配质量流量计系统和真空系统，可以准确的...
BTF-1200C-PECVD 参考价：面议
BTF-1200C-PECVD： 贝意克公司研制的PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这...
1600C高温箱式炉 参考价：面议
设备特点：1、保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能。2、采用模糊PID控制，控温精度可达±1℃。3、炉体采用双层风冷机构，炉子烧到Z...
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