电阻真空计皮拉尼ZDI-1型 参考价：面议
◆ 性能特点： * LED绿屏数字显示 * 宽广的测量范围 * 快速的反应速度 * 微处理器修正规管非线性，减少了测量误差 * 光电隔离，数字滤波，增...
液氮冷阱 参考价：面议
液氮冷井 本液氮冷井是一款真空管路冷凝设备，专为冷凝真空系统中难以过虑的有机小分子物质。该设备可单独拆卸组装，采用标准接口连接。进气口与出气口设计为上下段差结...
粉尘过滤器 参考价：面议
主要特点 1.该设备在抽真空时有效过滤腔体的粉尘和颗粒污染物，从而延长真空泵的使用时间。 2.该装置加装过程较为简单、方便。
微调阀系统 参考价：面议
安徽贝意克设备技术有限公司成立于2012年，隶属百思集团，其平行公司有百思新材料研究院有限公司、合肥莱德装备技术有限公司、天津百诺金科技有限公司、合肥欧莱迪光电...
鲍斯/飞跃/莱宝机械泵 参考价：面议
贝意克主要从事实验室仪器设备的研发生产，主营各类型箱式炉、管式炉、CVD、PECVD、ALD、PVD磁控溅射、真空镀膜、薄膜制备、纳米材料制备装备、各种高精度真...
低真空机组/VAU-02 参考价：面议
贝意克主要从事实验室仪器设备的研发生产，主营各类型箱式炉、管式炉、CVD、PECVD、ALD、PVD磁控溅射、真空镀膜、薄膜制备、纳米材料制备装备、各种高精度真...
国产高真空机组 参考价：面议
贝意克主要从事实验室仪器设备的研发生产，主营各类型箱式炉、管式炉、CVD、PECVD、ALD、PVD磁控溅射、真空镀膜、薄膜制备、纳米材料制备装备、各种高精度真...
爱德华真空泵组 参考价：面议
此系统是用来抽吸或压缩空气和其它无腐蚀性、不溶于水、不含有固体颗粒的气体，以便在封闭容器中形成真空和压力，吸入气体中允许混有少量液体。它被广泛用于新能源材料，金...
进口分子泵机组 参考价：面议
进口分子泵机组VAU-05 该系统由德国的前级无油泵，后级分子泵，真空传感器和电子控制系统和LED液晶显示组成，此系统是用来抽吸或压缩空气和其它无腐蚀性、不溶...
迷你搅拌炉 MF-1200C-RD 参考价：面议
1、保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能；2、采用模糊PID控制，控温精度可达±1℃；3、炉体采用双层风冷机构，炉子烧到最高温度时，...
高温气氛箱式炉 参考价：面议
ZMF-1700C-H2高温气氛箱式炉采用氧化铝纤维作为炉膛材料，以钼丝作为加热元件，炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、出气口、抽...
排胶箱式炉 MF-1200C-L 参考价：面议
主要特点保温层采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能;采用模糊PID控制，控温精度可达±1℃;炉体采用双层风冷结构，炉子烧到最高温度时，壳体表...
高真空自动循环设备 参考价：面议
BTF-1200C-HV高真空自动循环设备内外双热电偶控制，内热电偶制动，使用者可以设定设备循环温度点，可根据内热电偶测得的温度制动，推动炉管进出加热腔体，整个...
复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备 参考价：面议
复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备，可以实现在多孔氧化铝陶瓷管和陶瓷片上化学沉积上氧化物（SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2）和复合氧化物（Al2O3-S...
双炉膛滑动CVD控制系统 参考价：面议
双炉膛滑动CVD控制系统操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环...
连续进出料回转CVD生长设备 参考价：面议
连续进出料回转CVD生长设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间。
大三温区滑轨CVD系统（低真空、高真空环境） 参考价：面议
BTF-1200C-III-SL-4ZL大三温区滑轨CVD系统（低真空、高真空环境）控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶...
双温区磁力拉杆设备（固态源、气态源、多源） 参考价：面议
双温区磁力拉杆设备（固态源、气态源、多源）具有两个独立的温场，温场之外配有磁力拉杆和石英料舟，并配有内探热电偶，可实现在实验过程中将固态源（如硫粉、硒粉等）推进...
双独立温区滑轨炉CVD设备（可于生长硫化钼） 参考价：面议
双独立温区滑轨炉CVD设备（可于生长硫化钼）提供两个独立滑动的温场，两温场独立控制，每个温场的加热区的长度为230mm，可在实验过程中推进或推离样品，提供两个位...
小三温区滑轨CVD 参考价：面议
小三温区滑轨CVD控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能.
1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空） 参考价：面议
BTF-1200C-II-CVD1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空）是由1200℃双温区开启式管式炉、三路质量流量计及低真空系统组成，根据工艺要求亦可选...
低真空CVD系统 参考价：面议
低真空CVD系统是由多通道高精度的质量流量计、低真空机组以及1500度高温管式炉组成。其广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
迷你型CVD系统 参考价：面议
BTF-1200C-S-CVD迷你型CVD系统控温方式：模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
滑轨式CVD石墨烯生长系统 参考价：面议
滑轨式CVD石墨烯生长系统是专为生长石墨烯、碳纳米管研制的生长专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验，温区可独立程序控制，设备操作时可将实验需要的...
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