Leica徕卡DM2000正置生物显微镜组织观察 参考价：面议
Leica徕卡DM2000正置生物显微镜组织观察：徕卡DM2000生物显荧光显微镜，在正置生物镜中属于产品，可满足常规生物切片样品观察，在实际应用中可以拍摄理想...
原子层沉积系統 参考价：面议
原子层沉积系統是基于顺序使用气相化学过程的最重要技术之一；它可以被视为一种特殊类型的化学气相沉积（CVD）。多数ALD反应使用两种或更多种化学物质（称为前驱物，...
奥林巴斯生物显微镜三目倒置式IX83 参考价：面议
奥林巴斯生物显微镜三目倒置式IX83：奥林巴斯IX83是一台全电动的倒置生物显微镜，智能型的全电动显微镜兼具大视野(FN22，左侧光口)和IX3-ZDC2等功能...
德国徕卡DM2500研究级生物显微镜 参考价：面议
德国徕卡DM2500研究级生物显微镜：徕卡Leica显微镜DM2500M属于在生命科学领域研究中的研究工具，该显微镜适用于生物学常规分析和研究，徕卡Leica显...
奥林巴斯显微镜GX53可配成像系统 参考价：面议
奥林巴斯显微镜GX53可配成像系统是一台常规的倒置金相显微镜，该显微镜的人体工学设计使得用户的工作体验更加舒适，以进行更有效的检测。当与OLYMPUS流软件配合...
电子束蒸镀设备 参考价：面议
电子束蒸镀设备是一种实用且高度可靠的系统。我们的系统可针对量产使用单一坩埚也可以有多个坩埚來達到產品多層膜結構。在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計。單...
超高真空电子束蒸镀设备 参考价：面议
超高真空电子束蒸镀设备的特征为其真空压力低于10-8至10-12 Torr，在化学物理和工程领域十分常见。超高真空环境对于科学研究非常重要，因为实验通常要求，在...
剥离成形电子束设备 参考价：面议
剥离成形电子束设备：对于有些金属，我们很难使用蚀刻(Etching)方式来完成想要的电路图案(Circuit Pattern)时，就可以采用 Lift-Off制...
低真空化学气相沉积设备 参考价：面议
低真空化学气相沉积设备是一种化学气相沉积技术，利用热能在基板表面上引发前驱气体的反应。表面的反应是形成固化材料的原因。
感应耦合电浆化学气相沉积设备 参考价：面议
感应耦合电浆化学气相沉积设备是一种使用ICP的化学气相沉积技术，可为沉积反应提供一些能量。与PECVD方法相比，ICP-CVD可以在较低的温度下沉积各种薄膜而不...
批量式电浆辅助气相沉积设备 参考价：面议
批量式电浆辅助气相沉积设备为一种使用化学气相沉积技术，可为沉积反应提供能量。与传统的CVD方法相比，可在较低的温度下沉积各种薄膜且不会降低薄膜质量。
原子层沉积设备 参考价：面议
原子层沉积设备为一种气相化学沉积技术。大多数的ALD反应，将使用两种化学物质称为前驱物。这些前驱物以连续且自限的方式与材料表面进行反应。
电浆原子层沉积设备 参考价：面议
电浆原子层沉积设备是一种基于常规ALD的先进方法，其利用电浆作为裂化前驱物材料的条件，而不是仅依靠来自加熱基板的熱能。
等离子干蚀刻 参考价：面议
等离子干蚀刻是从另一种材料的表面去除材料的过程。该过程是由於于激发离子与材料的碰撞而发生的，无需使用任何液体化学药品或蚀刻剂即可将其除去。
反应离子蚀刻设备 参考价：面议
反应离子蚀刻设备中可以非常精确地控制其蚀刻轮廓、蚀刻速率和均勻性，并具有重复性。等向性蚀刻以及非等向性蚀刻都是可能的。
感应耦合电浆蚀刻 参考价：面议
感应耦合电浆蚀刻是在标准反应离子蚀刻（RIE）的基础上，添加电感耦合电浆的。感应耦合电浆由磁场围绕石英晶体管所提供。产生的高密度电浆被线圈包围，將充当变压器中的...
原子层蚀刻设备 参考价：面议
原子层蚀刻设备是一种先进的蚀刻技术，可精准的控制其蚀刻深度。随着元件尺寸的进一步减小，需要进一步的使用ALE才能达到其所需的精度。
串集多腔镀膜设备 参考价：面议
串集多腔镀膜设备是一組真空腔系統，這些真空腔系統通过位于系統中心的传输腔相互连接。从基材的清洁、镀膜与封裝的所有过程都在不破坏真空的环境下连续进行。
退火炉 参考价：面议
退火炉是用于制造半导体元件的制程方法。该制程包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理旨在达到不同的效果。可以加热晶片以激活掺杂剂，使沉积的膜至密化，并改变生...
化学气相沉积 参考价：面议
化学气相沉积为一种薄膜沉积方法，其中将基材暴露于一种或多种挥发性气体中，在基板表面上反应或分解以生成所需的薄膜沉积物。这种方法通常用于在真空环境中制造高质量与高...
电浆辅助式化学气相沉积设备 参考价：面议
电浆辅助式化学气相沉积设备是一种使用电浆的化学气相沉积(CVD)技术，可为沉积反应提供一些能量。与传统的CVD方法相比，PECVD可以在较低的温度下沉积各种薄膜...
FPD-PECVD 电浆辅助化学气相沉积 参考价：面议
FPD-PECVD 电浆辅助化学气相沉积：随着LCD面板和制造所需玻璃的尺寸的增加，其制造设备也变得更大，需要越来越大的设备投资。SYSKEY针对中小尺寸的需求...
类钻碳镀膜设备 参考价：面议
类钻碳镀膜设备是一种无定形纳米复合碳材料，具有与天然金刚石相似的特性，包括低摩擦、高硬度和高耐腐蚀性。正确的涂层可以減少滑动磨损，而类钻碳 (DLC)镀膜机可...
電子束蒸鍍 参考价：面议
電子束蒸鍍為一種物理氣相沉積（PVD）技術，其中電子束是由鎢絲所產生的，並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發材料，並將其材料由固態轉化為氣態以沉積在基板表面上。且該...
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