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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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硅片、单晶硅 简单介绍：硅片、单晶硅，用于工艺等同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM、原子力红外光谱、荧光光谱等分析测试基底、分子束外延生长的基底、X射线分析晶体半导体光刻 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-29 |
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Elcocarb B/DCSOLARONIX钙钛矿导电碳层浆料 B/DC 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿导电碳层浆料，Elcocarb B/DC 产品型号：Elcocarb B/DC 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-09 |
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Elcocarb B-L/SPSOLARONIX钙钛矿导电碳层浆料 B-L/SP 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿导电碳层浆料，Elcocarb B-L/SP 产品型号：Elcocarb B-L/SP 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-09 |
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Elcocarb B/SPSOLARONIX钙钛矿导电碳层浆料 B/SP 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿导电碳层浆料，Elcocarb B/SP 产品型号：Elcocarb B/SP 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-09 |
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Zr-Nanoxide ZT/SPSOLARONIX钙钛矿绝缘层浆料ZT/SP 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿绝缘层浆料，Zr-Nanoxide ZT/SP 产品型号：Zr-Nanoxide ZT/SP 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-09 |
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Zr-Nanoxide ZT/DCSOLARONIX钙钛矿绝缘层浆料ZT/DC 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿绝缘层浆料，Zr-Nanoxide ZT/DC 产品型号：Zr-Nanoxide ZT/DC 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-09 |
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Spiro-OMeTADSOLARONIX钙钛矿空穴传输层 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿空穴传输层材料，Spiro-OMeTAD 产品型号：Spiro-OMeTAD 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-08 |
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Methylammonium IodideSOLARONIX钙钛矿前驱体 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿前驱体，Methylammonium Iodide。 产品型号：Methylammonium Iodide 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-08 |
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mr-NIL212FC-100nm纳米压印光刻胶 mr-NIL212FC 系列 简单介绍：光刻胶mr-NIL212FC 系列——专为高精度软紫外纳米压印设计的革命性解决方案 产品核心优势： 快速固化技术（FC）：专为 200 nm 以下微细结构 优化，即使低强度紫外光源（如 LED）也能实现高效固化，显著提升生产效率。 Excellence刻蚀稳定性：相比标准型号（mr-NIL210），对 SiO₂ 等难刻蚀基材 的兼容性更强，图案转移精度更高。 PDMS 印章最佳搭 产品型号：mr-NIL212FC-100nm 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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mr-NIL212FC德国纳米压印光刻胶 简单介绍：高分辨率：支持 ＜100 nm 结构压印（如mr-NIL212FC可实现200nm柱阵列）。 量产适配： UV-NIL：室温低压（＜100 mbar），适合大面积和连续生产（R2R）。 T-NIL：热塑性/热固性 可选，平衡效率与稳定性。 工艺灵活性： 可搭配 LOR 光刻胶实现金属纳米结构剥离（Lift-off）。 通过 SiPOL 硅含量树脂实现图案放大，用于深槽刻蚀。 产品型号：mr-NIL212FC 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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ET500 ET505 ET510双组份环氧树脂胶粘剂 简单介绍：Permabond双组份环氧树脂胶粘剂适用于粘接各种材料。它们具有一系列不同的固化速度，并为要求苛刻的粘接应用提供高标准的性能。它们几乎用于每个行业，从航空航天、汽车、电子和电动机，一直到食品接触应用。 产品型号：ET500 ET505 ET510 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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ES550 ES558 ES562单组分环氧树脂胶粘剂 简单介绍：热固化环氧胶粘剂 Permabond单组分环氧树脂胶粘剂适用于粘接各种材料。它们具有一系列不同的粘度，可带或不带金属填料。Permabond环氧树脂的开发旨在为要求苛刻的粘接应用提供高标准的性能。 产品型号：ES550 ES558 ES562 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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EtchantsTransene二氧化硅 (SiO₂) 蚀刻液 光刻胶 简单介绍：Transene二氧化硅 (SiO₂) 蚀刻液 光刻胶，高纯度缓冲HF蚀刻剂，适用于热生长或沉积的二氧化硅薄膜。Transene二氧化硅蚀刻剂是半导体应用的理想选择，它能够最小化蚀刻不足的情况，并具有广泛的兼容性。缓冲氧化物蚀刻剂标准发货时不含表面活性剂。可根据要求添加非PFAS表面活性剂。 产品型号：Etchants 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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TransistKemLab光刻胶 简单介绍：KemLab光刻胶 TRANSIST系列产品与大多数湿法蚀刻液具有出色的兼容性，为微电子应用提供可靠、高分辨率的解决方案。TRANSIST提供正性和负性两种工作方式的光敏抗蚀剂， 产品型号：Transist 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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mr-NIL200-100nm纳米压印光刻胶 mr-NIL200 系列 简单介绍：纳米压印胶 mr-NIL200 系列——专为高精度图案转移设计的紫外光固化解决方案。自粘附配方，无需底涂，专为硬质印章（石英/OrmoStamp®）设计。 产品型号：mr-NIL200-100nm 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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mr-NIL210-100nm纳米压印光刻胶mr-NIL210系列 简单介绍：mr-NIL210系列是一款专为软紫外纳米压印技术（soft UV-NIL）设计的光固化纳米压印胶，特别适配于PDMS类软质印章材料（推荐使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成为图案转移工艺中理想的蚀刻掩模材料。 产品型号：mr-NIL210-100nm 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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PKP-308PIKemLab负性光刻胶 简单介绍：美国KemLab负性光刻胶 PKP-308PI 具有改进的分辨率、附着力、耐蚀刻性、低针孔密度，是负性光刻胶中综合性能最佳的选择。在使用过程中无需对光刻胶进行膜过滤。可实现微米级别的分辨率，且在生产中光刻胶工艺能保持高度可重复性。 产品型号：PKP-308PI 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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HARE SQ美国KemLab负性光刻胶 简单介绍：美国KemLab负性光刻胶 HARE SOTM是一种基于环氧树脂的负型光阻，专为聚合物MEMS、微流体、微机械加工以及其他微电子应用而设计。 产品型号：HARE SQ 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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PermabondUV670紫外光固化粘合剂 简单介绍：PermabondUV670紫外光固化粘合剂 特点和优势 按需固化 柔韧，抗冲击性好 低功率灯快速固化 100%固体，无溶剂 对金属和玻璃的附着力 描述 PERMABOND UV670是一种单组分、快速固化的紫外光固化粘合剂。固化的粘合剂坚韧、柔韧并具有优异的抗冲击性。 Permabond UV670非常适合将玻璃粘合到金属和金属化塑料上。 产品型号：PermabondUV670 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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Permabond紫外光固化粘合剂 简单介绍：Permabond紫外光固化粘合剂 Permabond UV固化胶是单组分、按需固化的胶粘剂，适用于多种基材的粘接。在暴露于UV光后，Permabond U固化胶会在数秒内固化至高强度。 Permabond紫外线固化粘合剂适用于各种应用。 它们对于玻璃与玻璃或玻璃与金属的粘合是的，并且对于承载接头形成非常高强度的粘合，例如在玻璃家具和陈列柜中发现的那些。 Permabond紫外线固化粘合剂 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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