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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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电镜耗材/AFM探针 简单介绍：AFM接触式探针Econo-ESP-Au 10根/盒 34-805.Econo-ESP-Au-10 AFM探针Olympus不导电探针AC160TS 10根/盒 803.OLY.AC160TS-R3-10 AFM探针Olympus不导电探针AC240TS 10根/盒 803.OLY.AC240TS-R3-10 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2024-04-16 |
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电镜耗材/SEM样品台 简单介绍：SEM样品台 直径12.5mm钉形样品台AGG301 JEOL圆柱形样品台直径12.5mm，高度5mm，50个/包 AGG3385 Hitachi日立M4样品台直径15mm，高度6mm AGG3313 SEM-TEM载网样品台适用于Zeiss,FEI和TESCAN扫描电镜 AGG3662 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2024-04-16 |
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SEM 灯丝电镜耗材 简单介绍：【产品详情】 Agar钨灯丝在采用高延展性的钨材料，在严格精密的生产工艺下生产。 · 钨灯丝有灯丝直径0.12mm及0.15mm两种规格，0.15mm直径规格钨灯丝使用寿命显著长于0.12mm规格。 · 此钨灯丝适用于Zeiss蔡司钨灯丝扫描电镜，规格为一盒10根灯丝。 产品型号：SEM 灯丝 所在地：武汉市 更新时间：2024-04-16 |
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PTU021350PTFE非层压膜过滤器 简单介绍：我们无支撑的疏水性PTFE非层压膜过滤器非常适合灭菌和排气应用，涉及空气，气体和与大多数其他过滤器不兼容的溶剂/酸。 产品型号：PTU021350 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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PTFE0113100PTFE层压膜过滤器 简单介绍：PTFE膜具有亲水性，疏水性，非层压和层压选项，适用于各种应用和温度。 PTFE层压膜过滤器具有标准的非层压疏水膜的质量，并具有背衬层的额外好处，使它们更厚且更易于处理。 产品型号：PTFE0113100 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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ISA-WIP500温等静压机 Warm Isostatic Press 简单介绍：温等静压机 Warm Isostatic Press商品概要：温度的物性变化所需产品在目标温度下作压制/高压处理的设备，使用流体（水）温度大可用90℃，以上温度可用密度变化小的油，主要用于电气，电子材料的层压工艺。 产品型号：ISA-WIP500 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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ISA-CIP500冷等静压机Cold Lsostatic Press 简单介绍：冷等静压机Cold Lsostatic Press商品说明：它被称为静水压力（冷等静压）和CIP处理，并被广泛用于需要等方向压缩成型的产品- 粉体成型（陶瓷，高强度复合材料）。该产品在常温下用于成型目的，而不需要根据温度改变的物理性能。 产品型号：ISA-CIP500 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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GM1010/GM1020/GM1075EM Resist SU-8负性抗蚀剂 简单介绍：EM Resist SU-8负性抗蚀剂产品，非常适合半导体应用。我们的产品有各种形式和厚度范围。 典型的SU-8过程包括以下步骤： 基板准备 旋涂 松弛时间以提高表面均匀度 软烤 曝光后烘烤 发展历程 冲洗并干燥 可选硬烤 产品型号：GM1010/GM1020/GM1075 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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HT20pUNIXX系列手动控制加热台 简单介绍：UNIXX系列手动控制加热台带有气动升降销的烘焙模块配有一个手动PID控制器和计时器开关。 经过微处理（PID）控制器用于高测量温度控制准确性。 确定过程的设定值和参数用5场塑料薄膜键盘调节。可自由编程的定时开关有两个可调派生计时器和两个省略计时器。 与各种参数的可能性，两个输出触点和两个切换输入将允许使用任何一种应用程序可以使用的。 产品型号：HT20p 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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AvCarb碳纸MGL190 MGL370 简单介绍：AvCarb碳纸MGL190 MGL370，MGL280是适用于燃料电池和电解槽应用的优质复 写纸。 新产品展示了优于行业标准产品的优势，凭借可比较的性能和性能数据， MGL 产品可与其他行业标准复写纸互换使用。 产品型号： 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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VSU45真空回流焊炉 简单介绍：可编程真空回流焊炉和钎焊炉，加热面积为420x420mm 红外灯交叉放置在工具板下方和盖子中。尺寸为420x420mm的方形工具板可以用任何合适的材料制成，也可以在其中使用用于固定装置的定制开口。通过设计，可将模具板及其上的零件一起装入腔室内-适用于批量生产。通过从腔室底部吹向工具板的氮气流进行工艺冷却。 产品型号：VSU45 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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VSU28真空回流焊炉 简单介绍：可编程真空回流焊炉和钎焊炉，加热面积为260x210mm 置于工具板下方（或可选地，也位于上方）的红外灯将其加热。尺寸为260x210mm的矩形工具板可以用任何合适的材料制成，也可以在其中使用用于固定装置的定制开口。通过设计，可将模具板及其上的零件一起装入腔室内-适用于批量生产。通过从腔室底部吹向工具板的氮气流进行工艺冷却。腔室本身是水冷的。如果未与安装机架MR23CP一起订购，则需要外部冷 产品型号：VSU28 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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VSU20真空回流焊炉 简单介绍：可编程真空回流焊炉，加热区域直径为200mm 真空回流炉配备有一个由实心铝制成的热板，上面涂有陶瓷。另一个水冷板安装在热板下方。在冷却时，将冷板抬起并压在热板上，从而迅速冷却。此功能还可以在真空下进行冷却。 产品型号：VSU20 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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VSU12真空回流焊炉12 简单介绍：真空回流焊炉12放置在工具板上的红外灯将其加热。该工具板为正方形,尺寸为100x100mm,可以用任何合适的材料制成。也可以预制带有定制开口的内部固定装置。可以将工具板及其上的零件一起更换。这样可以进行批量生产。氮气流从腔室底部吹向工具板,从而将其冷却。腔室本身是空气冷却的。 产品型号：VSU12 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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MPEM-1600掩膜曝光光刻机Mask Aligner 简单介绍：MYCRO*荷兰光刻机（掩膜曝光光刻机Mask Aligner ），是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。 产品型号：MPEM-1600 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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MEMA-800光刻机Mask Aligner 简单介绍：MYCRO*荷兰光刻机（光刻机Mask Aligner），是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。 产品型号：MEMA-800 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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MSMA-1200M光刻机Mask MSMA 简单介绍：MYCRO*荷兰光刻机（光刻机Mask MSMA），是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦大学等等。 产品型号：MSMA-1200M 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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MMA16光刻机Aligner MMA 简单介绍：MYCRO*荷兰（光刻机Aligner MMA16），是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦 产品型号：MMA16 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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MR200精密金刚石晶圆划片机 简单介绍：MYCRO*MR200手动精密金刚石晶圆划片机准确切割结构化硅晶片，是理想工具-半导体技术的制造。MR 200的设置和设备可为定义的结构化硅晶片切割提供高精度划线。MR 200是*的工具，特别是对于半导体技术中的REM制造。 MR200还适用于少量芯片的单芯片化，例如在实验室中使用。 产品型号：MR200 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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E3100Quorum临界点干燥仪 简单介绍：Quorum制造了一系列临界点干燥机，以满足电子显微镜（EM）和其他应用的需求。 Quorum临界点干燥仪（有时称为超临界干燥）是一种在扫描电子显微镜（SEM）中进行检查之前对生物组织进行脱水的既定方法。这项技术是由Polaron（Quorum的者）于1971年*引入的，用于制备SEM标本，而Quorum E3100 临界点干燥机仍然体现了包括水平腔室在内的原始设计理念 。 产品型号：E3100 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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