上海美析仪器有限公司
电感耦合等离子体质谱在半导体高纯材料分析中的应用
检测样品：半导体高纯材料
检测项目：痕量杂质元素
方案概述：本文综述了近十几年来电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）在半导体行业高纯材料分析方面的应用，分别讨论了IC硅片表面、光伏硅材料、三氯氢硅、四氯化硅、高纯试剂、超纯水、高纯气等物质中痕量杂质元素的分析方法。
本文综述了近十几年来电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）在半导体行业高纯材料分析方面的应用，分别讨论了 IC 硅片表面、光伏硅材料、三氯氢硅、四氯化硅、高纯试剂、超纯水、高纯气等物质中痕量杂质元素的分析方法。
电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）是80 年代发展起来的新的检测技术，已成为当代蕞蔷有力的元素分析手段之一，其以桌越的痕量分析能力，被广泛应用于多个领域。对痕量分析要求最高的，莫过于在半导体工业中对高纯材料的杂质分析，本文对近十几年来电感耦合等离子体质谱在半导体工业高纯材料方面的分析应用做一综述，分别讨论了IC硅片表面、光伏硅材料、三氯氢硅、四氯化硅、高纯试剂、超纯水、高纯气等物质中痕量杂质元素的分析方法。
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