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使用 ICP-OES 测定金属样品中的硅元素

检测样品:金属检测项目:硅元素

方案概述:本文介绍了一种使用 ICP-OES 测定金属样品基体中,氢氟酸介质下硅元素的方法,采用了安捷伦无硅涂层的耐氢氟酸进样系统,克服了常规 ICP-OES 分析氢氟酸介质空白值高的缺点,获得了较低的空白值,适合于测定多种金属基体中不同含量范围的硅元素。

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更新时间2022年09月21日

上传企业安捷伦科技(中国)有限公司

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本文介绍了一种使用 ICP-OES 测定金属样品基体中,氢氟酸介质下硅元素的方法,采用了安捷伦无硅涂层的耐氢氟酸进样系统,克服了常规 ICP-OES 分析氢氟酸介质空白值高的缺点,获得了较低的空白值,适合于测定多种金属基体中不同含量范围的硅元素。

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