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压电/铁电薄膜沉积磁控溅射 磁控溅射 金属沉积系统中标结果公告

2026年07月13日 11:36:34 来源:机电产品招标投标电子交易平台 点击量:3122

项目名称:压电/铁电薄膜沉积磁控溅射 磁控溅射 金属沉积系统,项目编号:0618-264TC26070A5,招标范围:1.1设备采购名称:压电/铁电薄膜沉积磁控溅射,1套,只接受全新设备。 1.2设备用途:主要用于光电、传感和铁电存储领域,实现高质量压电铁电掺杂氮化铝薄膜和配套电极材料的制备。 1.3设备作业基本流程:①装片->②预处理->③生长->④取片->⑤测试。招标机

  项目名称:压电/铁电薄膜沉积磁控溅射+磁控溅射+金属沉积系统
 
  项目编号:0618-264TC26070A5
 
  招标范围:1.1设备采购名称:压电/铁电薄膜沉积磁控溅射,1套,只接受全新设备。 1.2设备用途:主要用于光电、传感和铁电存储领域,实现高质量压电铁电掺杂氮化铝薄膜和配套电极材料的制备。 1.3设备作业基本流程:①装片->②预处理->③生长->④取片->⑤测试。
 
  招标机构:中招国际招标有限公司
 
  招标人:上海芯源创新中心
 
  开标时间:2026-06-30 09:30
 
  公示时间:2026-07-02 20:01 - 2026-07-07 23:59
 
  中标结果公告时间:2026-07-08 10:11
 
  中标人:香港爱科美半导体有限公司
 
  制造商:Ulvac,Inc.
 
  制造商国家或地区:日本
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